英偉達(dá)下一代顯卡核心曝光，將采用三星 7nm EUV 工藝

今年下半年，包括蘋果、華為、AMD都將推出基于7nm的產(chǎn)品，其中AMD更是在CPU和GPU上同時采用7nm工藝。作為 顯卡 市場競爭對手， 英偉達(dá) 也要準(zhǔn)備步入7nm。據(jù)產(chǎn)業(yè)鏈內(nèi)部消息，英偉達(dá)圖靈核心的下一代命名為安培核心，其將會采用 7nm EUV 工藝。

一提到7nm，很多朋友都會以為英偉達(dá)與 臺積電 合作，事實上此次英偉達(dá)與 三星 進(jìn)行合作，其芯片將會基于三星的7nm EUV工藝。盡管目前市面上還沒有一款芯片采用三星7nm EUV工藝，但考慮到基于安培核心的英偉達(dá)顯卡將會于2020年上市，所以時間方面不是問題。

三星的7nm EUV工藝之所以較臺積電晚，是因為三星跳過了7nm DUV，直接采用了7nm EUV工藝。目前臺積電第一代7nm工藝為DUV，7nm EUV工藝也已投產(chǎn)，但相應(yīng)芯片還沒有上市。所以明年在7nm EUV工藝上，三星和臺積電將會面臨直接競爭。