ASML發(fā)布Q2季度財報 EUV光刻機產(chǎn)能大增
掌握全球唯一EUV光刻機研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML(阿斯麥)公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財報,當季營收25.68億歐元,其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元,總計出貨了41臺光刻機,其中EUV光刻機7臺。
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201907/402864.htm在Q2季度中,ASML公司獲得了10臺EUV光刻機訂單,而且這些訂單不只是用于邏輯半導體工藝,還首次用于存儲芯片——在此之前,三星表示將在未來的內(nèi)存芯片生產(chǎn)中使用EUV光刻機,ASML的存儲芯片訂單應(yīng)該是來自三星了。
對于EUV光刻機,目前最主要的問題還是產(chǎn)能不足,ASML現(xiàn)在出售的光刻機型號是NXE:3400B,每小時晶圓產(chǎn)能是150到155wph,不過Q2季度中ASML已經(jīng)升級到了NXE:3400C型號,產(chǎn)能提升到了170wph,已經(jīng)有客戶做到了每天生產(chǎn)2000片晶圓的水平了。
根據(jù)ASML的路線圖,未來EUV光刻機的產(chǎn)品還會再有一次提升,每小時晶圓產(chǎn)能最終將達到185wph,不過要等到2021到2022年了。
再往后的話,EUV光刻機就要進入下一代了,提升光刻分辨率要靠新的物鏡系統(tǒng),ASML前幾年就投資了蔡司光學20億美元,雙方將共同研發(fā)NA=0.55的High NA(高數(shù)值孔徑)透鏡,可以進一步提升光刻機的分辨率。
根據(jù)ASML的計劃,High NA(高數(shù)值孔徑)透鏡的新一代EUV光刻機與在3nm節(jié)點引入,時間點是2023年到2025年,距離現(xiàn)在還早呢。
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