Intel 2029年上1.4nm工藝？非官方路線圖
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Intel的制程工藝一直備受關(guān)注。今天早些時候，荷蘭光刻機巨頭ASML(阿斯麥)放出一張路線圖，赫然羅列了Intel 7nm、5nm、3nm、2nm、1.4nm等工藝節(jié)點，尤其是最后這個將在2029年上馬的1.4nm非常意外，是我們第一次看到非整數(shù)工藝節(jié)點。
本文引用地址：http://m.butianyuan.cn/article/201912/408112.htm就此消息，快科技收到了Intel官方的澄清聲明。
原來，這張路線圖并非完全來自Intel官方，而是ASML CEO Martin van den Brink拿了此前Intel 9月份公布的一張制程工藝更新PPT修改而來，自行添加了原來沒有的幾個工藝名稱，但并未說明，造成了誤會。
這才是Intel的原圖：
換句話說，Intel對于7nm、5nm、3nm等等這些新工藝肯定是在研究推進的，原始PPT也明確2021年開始，會每兩年對制程工藝進行一次重大升級，而且每代工藝都有+、++兩次優(yōu)化更新。
但是更具體的新工藝技術(shù)節(jié)點和對應(yīng)時間表，Intel尚未公布，1.4nm這樣的另類更是完全無從談起。
當然在另一方面，ASML作為光刻機巨頭，可以說是Intel工藝進步的源頭之一，雙方合作關(guān)系密切，肯定了解一些Intel的規(guī)劃，但未來究竟如何發(fā)展，還是要等Intel官方公布的消息了。
Intel還向我們強調(diào)，在摩爾定律精神的指引下，Intel推進創(chuàng)新的決心始終堅定！
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