Intel 2029年上1.4nm工藝？非官方路線圖
加入技術(shù)交流群
Intel的制程工藝一直備受關(guān)注。今天早些時(shí)候，荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML(阿斯麥)放出一張路線圖，赫然羅列了Intel 7nm、5nm、3nm、2nm、1.4nm等工藝節(jié)點(diǎn)，尤其是最后這個(gè)將在2029年上馬的1.4nm非常意外，是我們第一次看到非整數(shù)工藝節(jié)點(diǎn)。
本文引用地址：http://m.butianyuan.cn/article/201912/408112.htm就此消息，快科技收到了Intel官方的澄清聲明。
原來，這張路線圖并非完全來自Intel官方，而是ASML CEO Martin van den Brink拿了此前Intel 9月份公布的一張制程工藝更新PPT修改而來，自行添加了原來沒有的幾個(gè)工藝名稱，但并未說明，造成了誤會(huì)。
這才是Intel的原圖：
換句話說，Intel對(duì)于7nm、5nm、3nm等等這些新工藝肯定是在研究推進(jìn)的，原始PPT也明確2021年開始，會(huì)每?jī)赡陮?duì)制程工藝進(jìn)行一次重大升級(jí)，而且每代工藝都有+、++兩次優(yōu)化更新。
但是更具體的新工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)和對(duì)應(yīng)時(shí)間表，Intel尚未公布，1.4nm這樣的另類更是完全無從談起。
當(dāng)然在另一方面，ASML作為光刻機(jī)巨頭，可以說是Intel工藝進(jìn)步的源頭之一，雙方合作關(guān)系密切，肯定了解一些Intel的規(guī)劃，但未來究竟如何發(fā)展，還是要等Intel官方公布的消息了。
Intel還向我們強(qiáng)調(diào)，在摩爾定律精神的指引下，Intel推進(jìn)創(chuàng)新的決心始終堅(jiān)定！
評(píng)論