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SK海力士開發(fā)出世界首款12層堆疊HBM3 DRAM

作者: 時(shí)間:2023-04-21 來源:全球半導(dǎo)體觀察 收藏

2023年4月20日, 宣布,再次超越了現(xiàn)有最高性能(內(nèi)存)——HBM3*的技術(shù)界限,全球首次實(shí)現(xiàn)垂直堆疊12個(gè)單品芯片,成功開發(fā)出最高容量24GB(Gigabyte,千兆字節(jié))**的HBM3 新產(chǎn)品,并正在接受客戶公司的性能驗(yàn)證。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202304/445826.htm

強(qiáng)調(diào)“公司繼去年6月全球首次量產(chǎn)HBM3 DRAM后,又成功開發(fā)出容量提升50%的24GB套裝產(chǎn)品?!?“最近隨著人工智能聊天機(jī)器人(AI Chatbot)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,高端存儲器需求也隨之增長,公司將從今年下半年起將其推向市場,以滿足市場需求?!?/p>

公司技術(shù)團(tuán)隊(duì)在此次此新產(chǎn)品采用了先進(jìn)(Advanced)MR-MUF*和TSV**技術(shù)。表示,通過先進(jìn)MR-MUF技術(shù)加強(qiáng)了工藝效率和產(chǎn)品性能的穩(wěn)定性,又利用TSV技術(shù)將12個(gè)比現(xiàn)有芯片薄40%的單品DRAM芯片垂直堆疊,實(shí)現(xiàn)了與16GB產(chǎn)品相同的高度。

SK海力士于2013年在世界上首次開發(fā)的HBM DRAM是實(shí)現(xiàn)需要高性能計(jì)算的生成式AI所必要的存儲器半導(dǎo)體產(chǎn)品,因此在受到業(yè)界的高度關(guān)注。

最新規(guī)格的HBM3 DRAM被評價(jià)為能夠快速處理龐大數(shù)據(jù)的首選產(chǎn)品,從而大型科技公司的需求也在逐漸擴(kuò)大。

公司已向數(shù)多全球客戶公司提供了24GB HBM3 DRAM樣品正在進(jìn)行性能驗(yàn)證,據(jù)悉客戶對此產(chǎn)品抱有極大的期待。

SK海力士封裝測試(P&T)擔(dān)當(dāng)副社長洪相后表示:“公司以全球頂級后端工藝技術(shù)力為基礎(chǔ),接連開發(fā)出了超高速、高容量的HBM DRAM產(chǎn)品。將在今年上半年內(nèi)完成新產(chǎn)品的量產(chǎn)準(zhǔn)備,以鞏固人工智能時(shí)代尖端DRAM市場的主導(dǎo)權(quán)”。

*HBM(High Bandwidth Memory):垂直連接多個(gè)DRAM,與DRAM相比顯著提升數(shù)據(jù)處理速度的高附加值、高性能產(chǎn)品。HBM DRAM產(chǎn)品以HBM(第一代)、HBM2(第二代)、HBM2E(第三代)、HBM3(第四代)的順序開發(fā)。

**現(xiàn)有HBM3 DRAM的最大容量是垂直堆疊8個(gè)單品DRAM芯片的16GB。

*MR-MUF:將半導(dǎo)體芯片堆疊后,為了保護(hù)芯片和芯片之間的電路,在其空間中注入液體形態(tài)的保護(hù)材料,并固化的封裝工藝技術(shù)。與每堆疊一個(gè)芯片時(shí),鋪上薄膜型材料的方式對比工藝效率高,散熱方面也更有效。

**TSV(Through Silicon Via, 硅通孔技術(shù))在DRAM芯片打上數(shù)千個(gè)細(xì)微的孔,并通過垂直貫通的電極連接上下芯片的先進(jìn)封裝(Advanced Packaging)技術(shù)。采用該技術(shù)的SK海力士HBM3 DRAM可每秒傳輸163部全高清(Full-HD)電影,最大速度可達(dá)819GB/s(每秒819千兆字節(jié))。




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