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開(kāi)始1-γ芯片制程開(kāi)發(fā)?美光日本廠擬引入ASML光刻機(jī)

作者: 時(shí)間:2023-05-18 來(lái)源:全球半導(dǎo)體觀察 收藏

知情人士稱,美國(guó)科技公司準(zhǔn)備在日本廣島的工廠安裝荷蘭公司的先進(jìn)芯片制造設(shè)備EUV(極紫外),以制造下一代存儲(chǔ)芯片(DRAM)。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元(15億美元)的補(bǔ)貼。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202305/446738.htm

日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實(shí)了在日的進(jìn)一步投資。他指出,日本政府正與臺(tái)積電討論擴(kuò)大在日投資的可能性,也有意在廣島開(kāi)始大規(guī)模生產(chǎn)先進(jìn)存儲(chǔ)芯片。

今日(周四),日本首相岸田文雄會(huì)見(jiàn)了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內(nèi)的芯片高管代表團(tuán),而有關(guān)芯片的詳細(xì)計(jì)劃可能在之后陸續(xù)宣布。

自2013年以來(lái),美光已經(jīng)在日本投資超過(guò)130億美元,其中包括去年宣布的



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