臺積電0.18微米晶圓制程技術(shù)登陸案獲準

    臺灣“經(jīng)濟部投審會”委員會議 通過臺灣積體電路制造股份有限公司申請將其上海廠晶圓制程技術(shù)提升為零點一八微米以上申請案。這是臺灣方面去年底開放零點一八微米晶圓制程登陸后首宗獲準投資案。

　　“中央社”報道，臺灣有關(guān)方面去年底宣布開放零點一八微米晶圓制程赴大陸投資，唯一獲準在大陸投資設(shè)立八吋、零點二五微米晶圓廠的臺積電率先提出提升制程申請。

　　臺積電早于二00五年一月即向當局提出赴大陸投資零點一八微米制程申請，當局直至去年底政策才正式松綁。臺積電遂補件申請。

　　二十日，臺積電上海有限公司產(chǎn)銷積體電路產(chǎn)品制程技術(shù)，由零點一八微米以上修正放寬至零點一八微米以上申請案順利獲通過。

　　另外，臺灣茂德科技公司也已遞案申請相同制程晶圓廠登陸，尚待審議。

　　對于有關(guān)投資案獲通過，臺積電方面表示歡迎，并指出在正式接獲當局核準函后，公司將盡快展開大陸廠零點一八微米制程建置。稱這將有利于在大陸地區(qū)提供符合客戶需求的制造服務(wù)，應(yīng)有助于爭取更多訂單，擴大公司在大陸的市占率。