asml 文章 進(jìn)入asml技術(shù)社區(qū)
ASML最先進(jìn)的光刻機(jī),花落誰家?
- 4月上旬,全球光刻機(jī)龍頭企業(yè)ASML發(fā)布了其最新一代極紫外線(EUV)光刻設(shè)備Twinscan NXE:3800E,該工具投影透鏡擁有0.33的數(shù)值孔徑,旨在滿足未來幾年對(duì)于尖端技術(shù)芯片的制造需求,包括3nm、2nm等小尺寸節(jié)點(diǎn)。ASML還計(jì)劃進(jìn)一步推出另一代低數(shù)值孔徑(EUV)掃描儀Twinscan NXE:4000F,預(yù)計(jì)將于2026年左右發(fā)布。近日,據(jù)外媒消息,ASML截至2025上半年的高數(shù)值孔徑EUV(High-NA EUV)設(shè)備訂單由英特爾全部包攬,據(jù)悉,英特爾在宣布重新進(jìn)入芯片代工業(yè)務(wù)時(shí)搶先
- 關(guān)鍵字: ASML 半導(dǎo)體設(shè)備 EUV光刻機(jī)
英特爾宣布世界首臺(tái)商用 High NA EUV 光刻機(jī)完成組裝,計(jì)劃明年投入研發(fā)使用
- IT之家 4 月 19 日消息,英特爾今日宣布其已在位于美國(guó)俄勒岡州希爾斯伯勒的 Fab D1X 研發(fā)晶圓廠完成世界首臺(tái)商用 High NA(0.55NA) EUV 光刻機(jī)的組裝工作,目前已進(jìn)入光學(xué)系統(tǒng)校準(zhǔn)階段?!?圖源英特爾新聞稿這臺(tái)光刻機(jī)型號(hào) TWINSCAN EXE:5000,為 ASML 的首代 High NA EUV 光刻機(jī),價(jià)值約 3.5 億美元(IT之家備注:當(dāng)前約 25.38 億元人民幣)。就在不久前 ASML 宣布其在荷蘭埃因霍溫總部的另一臺(tái) High NA EUV 光刻機(jī)成功
- 關(guān)鍵字: 英特爾 ASML 光刻機(jī)
阿斯麥向客戶交付第二臺(tái) High NA EUV 光刻機(jī),買家身份成謎
- IT之家 4 月 18 日消息,荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商阿斯麥(ASML)近日向一家未披露名稱的公司交付了其第二臺(tái)高數(shù)值孔徑 (NA) 極紫外 (EUV) 光刻機(jī)。這臺(tái)高端光刻機(jī)旨在制造比當(dāng)前低 NA EUV 設(shè)備所能制造的更高密度的芯片。據(jù)路透社報(bào)道,第二臺(tái)高端光刻機(jī)的出貨意味著這一最新技術(shù)正逐漸被采用。然而,ASML 對(duì)買家身份諱莫如深,只能猜測(cè)其身份,路透社指出英特爾、臺(tái)積電和三星都是潛在客戶。事實(shí)上,英特爾已經(jīng)購買了首臺(tái)高數(shù)值孔徑 EUV 光刻機(jī),用于其即將推出的 14A 制程節(jié)點(diǎn)。正如 A
- 關(guān)鍵字: ASML 光刻機(jī)
美國(guó):不準(zhǔn)向中國(guó)廠商提供光刻機(jī)維修服務(wù)!ASML回應(yīng)
- 4月18日消息,ASML公開表示,將繼續(xù)為中國(guó)大陸廠商提供設(shè)備維修服務(wù)。此前有消息稱,美國(guó)計(jì)劃向荷蘭施壓,試圖阻止ASML在中國(guó)提供部分設(shè)備的維修服務(wù)。在業(yè)績(jī)電話會(huì)上,ASML首席執(zhí)行官溫寧克回應(yīng)稱,“目前沒有什么可以阻止我們?yōu)樵谥袊?guó)大陸安裝的設(shè)備提供服務(wù)?!惫饪虣C(jī)是制造芯片的關(guān)鍵設(shè)備,中國(guó)大陸是ASML的第二大市場(chǎng)。因此,這種限制可能對(duì)中國(guó)的晶圓制造商產(chǎn)生重大影響,特別是對(duì)于維護(hù)產(chǎn)線穩(wěn)定運(yùn)行所必需的光刻機(jī)核心部件的供應(yīng)和維護(hù)。之前外界擔(dān)心,受限的光刻機(jī)主要是NXT:2000i及更先進(jìn)的機(jī)型,而其他未受限
- 關(guān)鍵字: ASML 光刻機(jī)
ASML發(fā)布2024年第一季度財(cái)報(bào)
- 阿斯麥(ASML)今日發(fā)布2024年第一季度財(cái)報(bào)。2024年第一季度,ASML實(shí)現(xiàn)凈銷售額53億歐元,毛利率為51.0%,凈利潤(rùn)達(dá)12億歐元。今年第一季度的新增訂單金額為36億歐元2,其中6.56億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計(jì)2024年第二季度的凈銷售額在57億至62億歐元之間,毛利率介于50%到51%,預(yù)計(jì)2024年的凈銷售額將與2023年基本持平。1.累計(jì)裝機(jī)管理銷售額等于凈服務(wù)和升級(jí)方案?(field option)?銷售額的總和。2.訂單包括所有的系統(tǒng)銷售訂單和通脹調(diào)整
- 關(guān)鍵字: ASML 2024年第一季度財(cái)報(bào)
老美失算了!想引領(lǐng)芯片技術(shù)卻讓ASML獨(dú)大
- 美國(guó)為了擺脫對(duì)他國(guó)的芯片依賴,力促芯片制造業(yè)回流本土,美媒撰文分析,美國(guó)曾有機(jī)會(huì)引領(lǐng)芯片制造技術(shù)卻錯(cuò)過了機(jī)會(huì),不只讓ASML獨(dú)大,也讓亞洲制造商臺(tái)積電、三星等主導(dǎo)了生產(chǎn)。根據(jù)MarketWatch報(bào)導(dǎo),ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)占有關(guān)鍵地位,是目前全球唯一有能力生產(chǎn)微影設(shè)備極紫外光(EUV)曝光機(jī)的企業(yè)。Dilation Capital基金經(jīng)理人Vijay Shilpiekandula指出,臺(tái)積電、英特爾和三星之間競(jìng)爭(zhēng)激烈,身為設(shè)備供貨商的ASML處在賺取AI熱潮紅利的最佳位置。至于美國(guó)為何會(huì)失去對(duì)EUV技術(shù)這
- 關(guān)鍵字: 芯片 ASML
3大巨頭AI競(jìng)賽背后的大贏家:芯片戰(zhàn)爭(zhēng)中的軍火商
- 全球AI浪潮來襲,3大巨頭臺(tái)積電、英特爾與三星競(jìng)爭(zhēng)日益激烈,根據(jù)MarketWatch報(bào)導(dǎo),避險(xiǎn)基金經(jīng)理人指出,荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備大廠ASML就像這場(chǎng)芯片戰(zhàn)爭(zhēng)中的軍火商,成為最大受惠者之一。報(bào)導(dǎo)指出,Dilation Capital基金經(jīng)理人Vijay Shilpiekandula在于倫敦舉辦的一場(chǎng)投資大會(huì)(Sohn Investment Conferenc)上表示,臺(tái)積電、英特爾和三星之間競(jìng)爭(zhēng)激烈,身為設(shè)備供貨商的ASML處在賺取AI熱潮紅利的最佳位置。Vijay Shilpiekandula認(rèn)為,數(shù)年來A
- 關(guān)鍵字: AI 芯片戰(zhàn)爭(zhēng) ASML
半導(dǎo)體光刻機(jī)巨頭,何去何從?
- 3月27日消息,據(jù)外媒報(bào)道,為留住光刻機(jī)設(shè)備巨頭阿斯麥(ASML)繼續(xù)在荷蘭發(fā)展,荷蘭政府計(jì)劃向ASML注入至少10億歐元資金。本月初,荷蘭當(dāng)?shù)貓?bào)紙De Telegraaf揭露,ASML計(jì)劃將公司搬離荷蘭。報(bào)道指出,ASML已向荷蘭政府提出了意向,表示將有可能在其他地方擴(kuò)張或遷移,法國(guó)是選擇之一。根據(jù)荷蘭通訊社的消息,荷蘭政府為此專門成立了一個(gè)名為“貝多芬行動(dòng)”的特別工作小組,由首相馬克·呂特親自領(lǐng)導(dǎo),旨在與ASML進(jìn)行協(xié)商以解決其對(duì)荷蘭當(dāng)?shù)貏趧?dòng)力供應(yīng)、法規(guī)政策和供應(yīng)鏈安全的擔(dān)憂。最新消息指出,荷蘭政府計(jì)
- 關(guān)鍵字: 半導(dǎo)體 光刻機(jī) ASML
逼近極限!ASML發(fā)布第三代EUV光刻機(jī)
- 芯片制造商需要速度。在科技日新月異的今天,芯片制造技術(shù)的不斷革新成為了推動(dòng)科技進(jìn)步的關(guān)鍵力量。作為光刻技術(shù)的領(lǐng)軍企業(yè),ASML近日發(fā)布的第三代EUV光刻機(jī)——Twinscan NXE:3800E,無疑為全球芯片制造業(yè)帶來了新的希望與機(jī)遇。更加先進(jìn)的光刻機(jī)出現(xiàn),不僅代表著ASML在光刻技術(shù)領(lǐng)域的又一次突破,更將助力芯片制造商實(shí)現(xiàn)2nm處理器制造的飛躍。又一“神器”出現(xiàn)ASML,作為全球領(lǐng)先的光刻機(jī)制造商,不用過多介紹。此次發(fā)布的Twinscan NXE:3800E光刻機(jī),是ASML在EUV光刻技術(shù)領(lǐng)域的又一
- 關(guān)鍵字: ASML 光刻機(jī)
ASML正計(jì)劃搬離荷蘭?向外擴(kuò)張轉(zhuǎn)移業(yè)務(wù)成為最優(yōu)解
- 據(jù)路透社報(bào)道,光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)正計(jì)劃將公司搬離荷蘭。荷蘭政府緊急成立了一個(gè)名為“貝多芬計(jì)劃”的特別工作組,由首相馬克·呂特親自領(lǐng)導(dǎo),以確保ASML繼續(xù)在荷蘭發(fā)展。消息還稱,ASML已向荷蘭政府提出了意向,表示將有可能在其他地方擴(kuò)張或遷移,法國(guó)或是選擇之一。針對(duì)最近“搬離荷蘭”等傳言,ASML發(fā)言人對(duì)媒體稱他們?cè)诳紤]公司的未來,但沒有透露具體的想法。ASML為何要搬離荷蘭?憑借先天的地理位置及海港內(nèi)陸網(wǎng)絡(luò),荷蘭一直為歐洲的交通樞紐,國(guó)家經(jīng)濟(jì)高度依賴國(guó)際貿(mào)易,2022年最新出口額占全國(guó)GDP之比超
- 關(guān)鍵字: ASML 荷蘭 EUV 佳能 光刻機(jī)
ASML前CTO,加入ASM
- 近日,ASM International NV(ASM)宣布提名Martin van den Brink為其監(jiān)事會(huì)成員。Martin van den Brink的任命將于5月13日提交給年度股東大會(huì)。據(jù)介紹,1984年,Martin van den Brink以工程師身份加入當(dāng)時(shí)新成立的ASML,并于1995年成為技術(shù)副總裁(CTO)。1999年,他被任命為ASML管理委員會(huì)成員,2013年,他被任命為首席技術(shù)官。在擔(dān)任公司領(lǐng)導(dǎo)期間,他是推動(dòng)ASML發(fā)展和技術(shù)創(chuàng)新的關(guān)鍵,這些創(chuàng)新幫助塑造了整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)。
- 關(guān)鍵字: ASML 半導(dǎo)體設(shè)備 晶圓
對(duì)話ASML|與光同行,共赴"芯"辰大海
- ASML作為半導(dǎo)體行業(yè)的全球供應(yīng)商,在科技領(lǐng)域不斷創(chuàng)新,為客戶提供包括光刻機(jī)、計(jì)算光刻和量測(cè)在內(nèi)的"鐵三角"全景光刻解決方案。同時(shí),公司也將人才視為追"芯"之旅的中堅(jiān)力量,致力于通過挑戰(zhàn)求精(Challenge)、合作共進(jìn)(Collaborate)、關(guān)愛致遠(yuǎn)(Care)為特征的"3C文化",以及"財(cái)務(wù)、身體、心理、社交和職業(yè)發(fā)展"這五大健康維度,幫助人才解鎖閃耀"芯"途。本期,優(yōu)興咨詢特邀ASML中國(guó)區(qū)人力
- 關(guān)鍵字: DUV 光刻機(jī) ASML
ASML發(fā)布2023年度報(bào)告 綜合概述ASML持續(xù)與客戶、供應(yīng)商及其他重要利益相關(guān)方共同推動(dòng)發(fā)展
- 荷蘭菲爾德霍芬,2024年2月14日——阿斯麥(ASML)今日發(fā)布了2023年度報(bào)告(簡(jiǎn)稱“年報(bào)”)。報(bào)告以“小影像,大影響”為主題,展現(xiàn)了ASML的商業(yè)模式及戰(zhàn)略、公司治理以及財(cái)務(wù)表現(xiàn)情況。 年報(bào)不僅介紹了ASML對(duì)于通過科技打造更美好、更具包容性和可持續(xù)性未來的貢獻(xiàn),還包含首席執(zhí)行官、首席財(cái)務(wù)官、首席技術(shù)官、首席商務(wù)官和監(jiān)事會(huì)主席及薪酬委員會(huì)主席的致辭。此外,通過年報(bào)還可以了解更多關(guān)于ASML員工對(duì)企業(yè)以及整個(gè)社會(huì)所帶來的影響。年報(bào)全文以及首席財(cái)務(wù)官Roger Dassen的年報(bào)介紹視頻已發(fā)
- 關(guān)鍵字: ASML 2023年度報(bào)告
ASML 回?fù)糍|(zhì)疑:High-NA EUV 光刻仍是未來最經(jīng)濟(jì)選擇
- 2 月 2 日消息,ASML 首席財(cái)務(wù)官 Roger Dassen 近日接受了荷蘭當(dāng)?shù)孛襟w Bits&Chips 的采訪。在采訪中,Dassen 回應(yīng)了分析機(jī)構(gòu) SemiAnalysis 的質(zhì)疑,表示 High-NA(高數(shù)值孔徑)EUV(極紫外光)光刻機(jī)仍是未來最經(jīng)濟(jì)的選擇。SemiAnalysis 之前刊發(fā)文章,認(rèn)為 High-NA 光刻技術(shù)將使用更高的曝光劑量,從而明顯降低單位時(shí)間內(nèi)的晶圓吞吐量。這就意味著,相較于沿用現(xiàn)有的 0.33NA EUV 光刻機(jī)并搭配多重曝光,引入 Hig
- 關(guān)鍵字: ASML 光刻機(jī)
asml介紹
您好,目前還沒有人創(chuàng)建詞條asml!
歡迎您創(chuàng)建該詞條,闡述對(duì)asml的理解,并與今后在此搜索asml的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
歡迎您創(chuàng)建該詞條,闡述對(duì)asml的理解,并與今后在此搜索asml的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會(huì)員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機(jī)EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國(guó)際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號(hào)-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國(guó)際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號(hào)-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473