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臺積電、Intel、三星狂買ASML EUV光刻機(jī)

  • 臺積電在北美技術(shù)論壇上公布了新的制程路線圖，定于2025年量產(chǎn)2nm工藝，其采用Nanosheet（納米片電晶體）的微觀結(jié)構(gòu)，取代FinFET。期間，臺積電甚至規(guī)劃了5種3nm制程，包括N3、N3E、N3P、N3S和N3X，要在2025年前將成熟和專業(yè)化制程的產(chǎn)能提高50%，包括興建更多的晶圓廠。顯然，作為產(chǎn)能提升以及興建晶圓廠的關(guān)鍵核心設(shè)備，EUV光刻機(jī)少不了要采購一大批。臺積電表示，計劃在2024年引入ASML的新一代EUV極紫外光刻機(jī)。此前，Intel曾說自己是第一個訂購ASML下一代EUV光刻機(jī)的
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ASML 分享 High-NA EUV 光刻機(jī)最新進(jìn)展：目標(biāo) 2024-2025 年進(jìn)廠

  • 5 月 29 日消息，半導(dǎo)體行業(yè)花了十多年的時間來準(zhǔn)備極紫外線 (EUV) 光刻技術(shù)，而新的高數(shù)值孔徑 EUV 光刻（High-NA EUV）技術(shù)將會比這更快。目前，最先進(jìn)的芯片是 4/5 納米級工藝，下半年三星和臺積電還能量產(chǎn) 3nm 技術(shù)，而對于使用 ASML EUV 光刻技術(shù)的 Twinscan NXE:3400C 及類似系統(tǒng)來說，它們大都具有 0.33 NA（數(shù)值孔徑）的光學(xué)器件，可提供 13 nm 分辨率。目前來看，這種分辨率尺寸對于 7 nm / 6 nm 節(jié)點 (36 nm ~ 38 nm)
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ASML：現(xiàn)有技術(shù)能實現(xiàn)1nm工藝

  • 　　5月17日消息，為了強(qiáng)調(diào)光在推進(jìn)科學(xué)進(jìn)步過程中的重要作用，聯(lián)合國教科文組織將每年的5月16日定為“國際光日”。5月13日，ASML在一篇公眾號文章中稱，現(xiàn)有技術(shù)能實現(xiàn)1nm工藝，摩爾定律可繼續(xù)生效十年甚至更長時間?！　SML稱，在半導(dǎo)體領(lǐng)域，摩爾定律——這一誕生于1965年的前瞻推斷，就扮演著如同光一樣的角色，指引芯片制造的每一次創(chuàng)新與突破。在過去的50多年里，摩爾定律不斷演進(jìn)。摩爾關(guān)于以最小成本制造復(fù)雜芯片的最初預(yù)測，也在演進(jìn)過程中被轉(zhuǎn)述成各種各樣的表述，現(xiàn)在這個定律最常被表述為半導(dǎo)體芯片可容納的
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ASML：2023年芯片產(chǎn)能將仍然供應(yīng)緊張

  • 日前，ASML對目前的芯片產(chǎn)能做出了推測，目前沒有任何跡象表明相關(guān)需求放緩。根據(jù)ASML首席執(zhí)行官Peter Wennink在財報會議上的說法，目前，在各大細(xì)分市場的客戶對于先進(jìn)和成熟芯片制造技術(shù)需求已經(jīng)到了一種“前所未有”的地步，且沒有任何減弱的跡象。用戶旺盛的需求導(dǎo)致Wennink不得不承認(rèn)，由于產(chǎn)能限制，ASML目前做多只能滿足其深紫外光刻機(jī)需求的60%左右。Wennink表示，這意味著，直到2023年，芯片產(chǎn)能都將處在嚴(yán)重短缺的狀態(tài)，并且沒有看到任何能夠表明需求放緩的跡象。在此次電話會議上，Pet
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ASML公司開撕美國？光源技術(shù)不是根源，不交付EUV光刻機(jī)另有原因

  • ASML公司雖然是荷蘭企業(yè)，但不少網(wǎng)友都把ASML公司“美”化了，這里的“美”指的是美國。在華為遭遇到芯片封鎖之前，中國半導(dǎo)體企業(yè)就曾向ASML公司支付了定金，采購了一臺EUV光刻機(jī)。然而，ASML公司卻遲遲沒有發(fā)貨，這也引起了網(wǎng)友的各種猜疑。眾所周知，全世界只有ASML公司能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)，而一部EUV光刻機(jī)上就有超過10w的精密零件，各方面的技術(shù)也是來自全世界各國的頂尖技術(shù)。所以ASML公司的光刻機(jī)一直是供不應(yīng)求。但明明已經(jīng)收了定金，10億一部的EUV光刻機(jī)，ASML公司為何有生意不做呢？大部分的
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投資5000多萬 俄羅斯計劃研發(fā)全新EUV光刻機(jī)：ASML都沒有

  • 光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備之一，EUV光刻機(jī)全球也只有ASML公司能夠研發(fā)、生產(chǎn)，但它的技術(shù)限制也很多，俄羅斯計劃開發(fā)全新的EUV光刻機(jī)，使用的是X射線技術(shù)，不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片?！　」饪虣C(jī)的架構(gòu)及技術(shù)很復(fù)雜，不過決定光刻機(jī)分辨率的主要因素就是三點，分別是常數(shù)K、光源波長及物鏡的數(shù)值孔徑，波長越短，分辨率就越高，現(xiàn)在的EUV光刻機(jī)使用的是極紫外光EUV，波長13.5nm，可以用于制造7nm及以下的先進(jìn)工藝工藝。　　俄羅斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)現(xiàn)在就接下了貿(mào)工部的6.7億盧布資金(約合51
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攻克“光源中的光源”，中國有機(jī)會

  • 當(dāng)前，芯片問題廣受關(guān)注，而半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠——以極紫外（EUV）光刻機(jī)為代表的高端光刻機(jī)，則是我國集成電路（IC）產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展必須邁過的“如鐵雄關(guān)”。如何在短期內(nèi)加快自主生產(chǎn)高端光刻機(jī)的步伐，打破國外的技術(shù)封鎖和市場壟斷？筆者認(rèn)為，應(yīng)找準(zhǔn)關(guān)鍵技術(shù)，攻克核心設(shè)備，躋身上游產(chǎn)業(yè)。認(rèn)清光刻關(guān)鍵技術(shù)對于光刻機(jī)，憑什么美國可以左右荷蘭阿斯麥公司（ASML）EUV光刻機(jī)的出海國家？ASML又為什么“愿意”聽從美國的“擺布”？一方面，美國在ASML早期研發(fā)階段給予大力扶持，幫助其獲取最新的研究成果；作為繼續(xù)扶持
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總投資155億 國產(chǎn)CMOS傳感器工廠又迎來一臺ASML先進(jìn)光刻機(jī)搬入

  • 日前國產(chǎn)芯片廠商格科微宣布成功實現(xiàn)整套ASML光刻機(jī)中的關(guān)鍵設(shè)備——先進(jìn)ArF光刻機(jī)的搬入。據(jù)格科微表示，目前，格科微潔凈室已按計劃分階段順利驗收，相關(guān)廠務(wù)系統(tǒng)配備進(jìn)展順利，共有六十一臺設(shè)備已經(jīng)搬入。未來，外延、蝕刻、薄膜、清洗等相關(guān)設(shè)備仍會陸續(xù)搬入。格科微表示，ArF光刻機(jī)的成功引入，是格科微“12英寸CIS集成電路特色工藝研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目”建設(shè)的關(guān)鍵節(jié)點。依托自有工廠即格科半導(dǎo)體的先進(jìn)制程，格科微將進(jìn)一步加快先進(jìn)CIS工藝和高階專利像素的研發(fā)速度，并在自有工廠實現(xiàn)批量生產(chǎn)驗證，從而極大縮短高端產(chǎn)品從研
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光刻機(jī)巨頭阿斯麥 ASML 將于新加坡擴(kuò)建新產(chǎn)線

  • 3 月 29 日消息，光刻機(jī)巨頭阿斯麥 ASML 在新加坡一間工廠的開幕式上宣布，將在該工廠興建第二座制造車間，預(yù)計將于 2023 年初投產(chǎn)。擴(kuò)建后的工廠將讓該公司在新加坡的產(chǎn)能增加 3 倍，全球產(chǎn)能倍增。ASML 是世界領(lǐng)先的科技公司之一，全球半導(dǎo)體價值鏈的主要參與者。這里設(shè)計的技術(shù)和機(jī)器有助于在新加坡、韓國或美國生產(chǎn)芯片。世界上最大的芯片制造商們都需要這種設(shè)備。在生產(chǎn)處理器芯片的過程中，EUV 光刻機(jī)最昂貴。目前全世界只有阿斯麥（ASML）能制造出 EUV 光刻機(jī)。在過去的十年時間里，阿斯麥總共售出大
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ASML發(fā)出產(chǎn)能預(yù)警 芯片制造商面臨先進(jìn)光刻機(jī)供應(yīng)短缺的瓶頸

  • 受近年芯片供應(yīng)持續(xù)短缺的影響，我們已經(jīng)看到了位于世界各地的多個晶圓廠的建設(shè)公告。但是在投入實際生產(chǎn)之前，這一切都受到荷蘭阿斯麥（ASML）的光刻機(jī)供應(yīng)的限制。ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 剛剛發(fā)出警告，稱該公司難以滿足客戶的產(chǎn)品需求。據(jù)悉，ASML 專注于生產(chǎn)適用于半導(dǎo)體行業(yè)的各種類型的光刻機(jī)，且在該領(lǐng)域處于世界領(lǐng)先地位，客戶中包括了英特爾、臺積電、三星等芯片巨頭。然而最新消息是，至少在未來幾年內(nèi)，ASML 都無法順利交付所有訂單。即使今年預(yù)期的光刻機(jī)出貨量高于去年，但明年的增勢并未放
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ASML的大股東究竟是誰？真的是英特爾、三星、臺積電？

  • 眾所周知，ASML是全球最牛的光刻機(jī)廠商，能夠用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻機(jī)，只有ASML能夠生產(chǎn)。而ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)，一般也是優(yōu)先供應(yīng)給intel、臺積電、三星這三家廠商，其它的廠商要等這三家廠商買剩了后，才可能會輪到。為什么ASML會優(yōu)先賣給這三家廠商呢？第一是這三家廠商是大客戶，必須要優(yōu)特，第二則是很多人說，這三家廠商是ASML的股東，所以當(dāng)然要先照顧股東。那么問題就來了，ASML的股東究竟是誰，英特爾、三星、臺積電真的是ASML的股東么？關(guān)于ASML的由來，可以追溯到1984年，
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格科微臨港12吋CIS項目迅速推進(jìn)，ASML先進(jìn)ArF光刻機(jī)正式搬入

  • 3月24日上午10:18，在嚴(yán)格遵守防疫政策并做好疫情防控措施的情況下，格科微順利舉辦ASML先進(jìn)ArF光刻機(jī)搬入儀式。格科半導(dǎo)體SVP李朝勇、各部門總監(jiān)、光刻團(tuán)隊及廠務(wù)團(tuán)隊出席儀式，共同見證了公司這一里程碑式的重要時刻。目前，格科微有限公司“12英寸CIS集成電路特色工藝研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目”推進(jìn)迅速。廠房和潔凈車間建設(shè)已經(jīng)基本完成，并于2022年2月16日開始主設(shè)備的搬入安裝。在3月24日，格科半導(dǎo)體再次迎來了建廠重要標(biāo)志性時刻，整套生產(chǎn)線中的最關(guān)鍵設(shè)備——ASML先進(jìn)ArF光刻機(jī)成功搬入。ArF光刻機(jī)的
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俄烏局勢未解又遇疫情反撲 半導(dǎo)體供應(yīng)鏈雪上加霜

  • 俄烏軍事沖突愈演愈烈，加上中國境內(nèi)多座城市新冠疫情反撲，全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈再次亮起紅燈。綜合外媒報道，由于俄烏局勢持續(xù)緊張，烏克蘭兩家主要氖氣供應(yīng)商Ingas和Cryoin公司工廠暫停生產(chǎn)。氖氣廣泛應(yīng)用于鐳射激光等半導(dǎo)體制程中，這兩家公司每月為中國大陸及臺灣地區(qū)、韓國、美國、德國客戶提供氖氣，其中約75%用于芯片行業(yè)。兩家公司所在地馬里烏波爾和敖德薩目前被俄羅斯控制，為保護(hù)員工安全停止運營。俄羅斯和烏克蘭的氖氣產(chǎn)量占全球的四分之一，半導(dǎo)體制造另一重要原材料稀土金屬鈀40%來自俄羅斯。俄烏事態(tài)持續(xù)激化將令本就
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TrendForce：ASML工廠火災(zāi) 影響EUV光刻機(jī)交期

  • ASML位于德國柏林工廠一處，于1月3日發(fā)生火警，該企業(yè)主要為晶圓代工及內(nèi)存生產(chǎn)，所需的關(guān)鍵設(shè)備機(jī)臺，包含EUV與DUV之最大供貨商。根據(jù)TrendForce的消息，占地32,000平方米的柏林廠區(qū)中，約200平方米廠區(qū)受火災(zāi)影響。該廠區(qū)主要制造光刻機(jī)中，所需的光學(xué)相關(guān)零組件，例如：晶圓臺、光罩吸盤和反射鏡，其中用以固定光罩的光罩吸盤，處于緊缺狀態(tài)。目前該廠零組件以供應(yīng)EUV機(jī)臺較多，且以晶圓代工的需求占多數(shù)。若屆時因火災(zāi)而造成零組件交期有所延后，不排除ASML將優(yōu)先分配主要的產(chǎn)出支持晶圓代工訂單的可能性
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ASML：努力向中國提供一切能夠提供的技術(shù)

  • 芯片行業(yè)一直是困擾全球的“卡脖子”領(lǐng)域，而其中核心的光刻機(jī)技術(shù)被幾家公司牢牢的攥在手里。想要在芯片領(lǐng)域有長足的進(jìn)步，光刻機(jī)這種核心設(shè)備就要有所突破。而之前美國通過自身在全球市場的控制能力，通過修改法案等手段一直將光刻機(jī)設(shè)備和技術(shù)限制對中國進(jìn)行輸出。但近期光刻機(jī)頭部企業(yè)ASML則明確表態(tài)將會盡其所能向中國市場提供一切他們能夠提供的技術(shù)，其中DUV光刻機(jī)將會不需要認(rèn)可許可即可向中方企業(yè)提供。ASML光刻機(jī)除此之外，ASML表示在當(dāng)前法律框架之下，他們除了EUV光刻機(jī)無法向中方企業(yè)提供，其他產(chǎn)品都可以正常發(fā)售。
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