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ASML CEO：施加限制將使中國(guó)搞出替代產(chǎn)品 我們會(huì)徹底失去該市場(chǎng)

  • 繼本月15日就EUV光刻機(jī)出口管制發(fā)表看法后，荷蘭ASML（阿斯麥）CEO溫彼得（Peter Wennink）在23日再次表達(dá)了自己的意見(jiàn)。他強(qiáng)調(diào)的一個(gè)重點(diǎn)是，這樣做只會(huì)加快中國(guó)自主研發(fā)的速度。雖然溫彼得認(rèn)為知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)力度要保持，但他并不認(rèn)可切斷高端技術(shù)出口的做法?！叭绻悴扇〕隹诠苤拼胧⒅袊?guó)市場(chǎng)拒之門(mén)外，這將迫使他們爭(zhēng)取技術(shù)自主權(quán)……在15年的時(shí)間里，他們自己將能夠做出所有的這些東西，而且他們的市場(chǎng)（針對(duì)歐洲供應(yīng)商的市場(chǎng)）將徹底消失。”溫彼得在阿斯麥總部所在地——荷蘭費(fèi)爾德霍芬與媒體交流時(shí)時(shí)作出該表
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ASML:如美國(guó)繼續(xù)對(duì)華“卡脖子”，歐洲芯片的中國(guó)市場(chǎng)會(huì)消失

  • 據(jù)美媒Politico報(bào)道，荷蘭光刻機(jī)制造商、行業(yè)巨頭ASML的總裁溫寧克日前表示，美國(guó)針對(duì)中國(guó)的芯片出口禁令傷害了歐洲半導(dǎo)體行業(yè)，“15年之內(nèi)，中國(guó)將有能力制造所有產(chǎn)品。到那時(shí)，歐洲供應(yīng)商的中國(guó)市場(chǎng)將會(huì)消失?！薄　貙幙苏f(shuō)，歐盟不應(yīng)根據(jù)美國(guó)戰(zhàn)略而限制高端技術(shù)向中國(guó)出口，這樣會(huì)加速幫助中國(guó)實(shí)現(xiàn)“科技自主”?！　〗陙?lái)，隨著美國(guó)對(duì)中興通訊、華為以及眾多中國(guó)高科技公司的打壓，歐洲一些芯片制造關(guān)鍵技術(shù)和產(chǎn)品未獲得美國(guó)許可，無(wú)法出口給中國(guó)。這種針對(duì)中國(guó)的“卡脖子”做法也讓一些歐洲企業(yè)利潤(rùn)下降明顯，其中原因是歐洲對(duì)
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ASML澄清與中芯國(guó)際交易EUV與DUV光刻機(jī)一字之差大不同

  • 　　近日，中芯國(guó)際與ASML達(dá)成12億美元交易購(gòu)買(mǎi)晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對(duì)雙方此次合作，有媒體報(bào)道稱(chēng)“除了EUV光刻機(jī)，中芯國(guó)際幾乎可以買(mǎi)到其他所有型號(hào)的光刻機(jī)。”但是這一說(shuō)法很快被ASML官方澄清，該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)?！　】赡芎芏嗑W(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈，這繞來(lái)繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個(gè)小科普，EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢？EUV也就是“極深紫外線(xiàn)”的意思，而DUV是“深紫外線(xiàn)”的意思，通過(guò)字面就知道EUV看上去就比DUV高級(jí)，實(shí)際上也是如此。　　ASML澄清與中
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ASML 5nm光刻機(jī)搶破頭：臺(tái)積電一開(kāi)口就18臺(tái) 三星英特爾急了

  • 如今全球芯片短缺，不僅僅已經(jīng)嚴(yán)重影銷(xiāo)到了科技數(shù)碼產(chǎn)業(yè)，就連汽車(chē)產(chǎn)業(yè)也深受其害。為了滿(mǎn)足2021年的需求激增，目前有國(guó)外媒體稱(chēng)臺(tái)積電一口氣向荷蘭ASML下達(dá)了18臺(tái)最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)需求，如此之大的需求量可以說(shuō)是史上的天量，三星英特爾急了。ASML光刻機(jī)搶破頭　　因?yàn)槟壳叭蚰軌蛱峁┳钕冗M(jìn)極紫外光刻機(jī)的只有荷蘭ASML一家，在剛剛過(guò)去的2020年當(dāng)中，ASML面向全球客戶(hù)一共才交付了31臺(tái)極紫外光刻機(jī)，也就是說(shuō)臺(tái)積電如果一口氣吞掉了18臺(tái)的話(huà)，就占盡了全球半導(dǎo)體新工藝產(chǎn)能的半數(shù)以上還要多?！　《鴮?duì)于正在步
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中國(guó)芯片業(yè)為什么搞不過(guò)一家荷蘭公司

  • 荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財(cái)報(bào)，這位世界光刻機(jī)霸主去年共出貨了31臺(tái)EUV光刻機(jī)，中國(guó)大陸由于種種原因沒(méi)有買(mǎi)到其中任何一臺(tái)?！　∮腥苏f(shuō)阿斯麥?zhǔn)俏ㄒ灰粋€(gè)能讓臺(tái)積電折腰的公司，這一點(diǎn)也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機(jī)，是半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟，沒(méi)有刀，再好的師傅也雕不出來(lái)花。　　如果有任何廠商的光刻機(jī)設(shè)備需要維修，阿斯麥的工程師從登上飛機(jī)那一刻，廠商就要付給他們以小時(shí)計(jì)的美金?！　≡?jīng)，某上市公司的光刻機(jī)出問(wèn)題后，排了3年隊(duì)才等到阿斯麥的工程師。結(jié)果阿斯麥的
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全球最大光刻機(jī)廠CEO：拜登恐難緩解中美半導(dǎo)體緊張局勢(shì)

  • 拜登上任在即，他會(huì)緩解緊張的中美科技局勢(shì)嗎？近期，全球最大光刻機(jī)制造商ASML的CEO表示，即使總統(tǒng)換屆，兩國(guó)在包括光刻機(jī)在內(nèi)的半導(dǎo)體領(lǐng)域，仍將出現(xiàn)進(jìn)一步的對(duì)抗。也有人發(fā)表看法，發(fā)展芯片，開(kāi)源指令集架構(gòu)RISC-V可能會(huì)讓中國(guó)芯片自主「彎道超車(chē)」？　　離美國(guó)新任總統(tǒng)拜登的上任越來(lái)越近了?！　≡谶^(guò)去川普任職期內(nèi)，中美之間的貿(mào)易戰(zhàn)讓不少科技公司都卷入其中，總部位于荷蘭的光刻機(jī)制造商ASML也是其中之一?！　∮捎诿绹?guó)政府的壓力，其最新價(jià)值約2億美元的光刻機(jī)已停止向中國(guó)銷(xiāo)售?！　∮捎诖ㄆ盏呐e動(dòng)常常出其不意而且瘋狂
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中科院研發(fā)者回應(yīng)5納米光刻技術(shù)突破ASML壟斷

  • 　　今年7月，在中國(guó)科學(xué)院官網(wǎng)上發(fā)布了一則研究進(jìn)展，中科院蘇州所聯(lián)合國(guó)家納米中心在《納米快報(bào)》（Nano Letters）上發(fā)表了題為《超分辨率激光光刻技術(shù)制備5納米間隙電極和陣列》（5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography）的研究論文，介紹了該團(tuán)隊(duì)研發(fā)的新型5 納米超高精度激光光刻加工方法。該論文發(fā)表在《納米快報(bào)》（NanoLetters）。圖截自官網(wǎng)ACS官網(wǎng)　　消息一經(jīng)發(fā)出，外界一片沸騰，一
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荷蘭巨頭1nm光刻機(jī)迎新突破！中國(guó)訂購(gòu)的EUV光刻機(jī)呢？

  • 　　據(jù)TechWeb網(wǎng)站11月30日最新報(bào)道，近日荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）又送來(lái)一則好消息，該司已經(jīng)與比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC共同完成了1nm光刻機(jī)的設(shè)計(jì)工作?！　?jù)了解，先進(jìn)制程的光刻機(jī)對(duì)于曝光設(shè)備的分辨率要求更高。與此同時(shí)，ASML已經(jīng)完成了0.55NA曝光設(shè)備的基本設(shè)計(jì)工作。按照阿斯麥的計(jì)劃，預(yù)計(jì)相應(yīng)的曝光設(shè)備全線(xiàn)準(zhǔn)備好之后，會(huì)在2022年實(shí)現(xiàn)商業(yè)化?！　∪欢@家荷蘭企業(yè)的光刻機(jī)制造技術(shù)卻變得重大突破之際，我國(guó)芯片制造巨頭——中芯國(guó)際自阿斯麥訂購(gòu)的EUV光刻機(jī)至今卻還未到貨。據(jù)悉，中芯
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阿斯麥ASML全新EUV光刻機(jī)將于2021年中期發(fā)貨

  • 14日訊，《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》記者從ASML獲悉，其公布了EUV路線(xiàn)圖上的新機(jī)型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格，這是30mJ/cm2的曝光速度達(dá)到每小時(shí)曝光160片晶圓，提高了18%的生產(chǎn)率，并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至1.1納米，并計(jì)劃于2021年的中期開(kāi)始發(fā)貨。
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華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機(jī)？ASML華裔工程師：天方夜譚

  • 9月16日，中國(guó)科學(xué)院院長(zhǎng)白春禮在國(guó)新辦發(fā)布會(huì)上介紹稱(chēng)，“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段要把美國(guó)“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局，集中全院力量聚焦國(guó)家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱(chēng)，從2021年到2030年未來(lái)的十年是“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段。對(duì)此，首先要進(jìn)行體制機(jī)制改革。他稱(chēng)，目前已經(jīng)設(shè)立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學(xué)中心和特色所四類(lèi)機(jī)構(gòu)，目的是根據(jù)科研性質(zhì)不同進(jìn)行分類(lèi)定位、分類(lèi)管理、分類(lèi)評(píng)價(jià)、分類(lèi)資源配置?！斑@個(gè)工作還沒(méi)有完，只是進(jìn)行了一部分，所以第二階段我們爭(zhēng)取在2025年要把四類(lèi)機(jī)構(gòu)全部做完，
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臺(tái)積電采購(gòu)30臺(tái)EUV光刻機(jī)沖刺7/5nm，ASML就近設(shè)立培訓(xùn)中心

  • 臺(tái)積電在高端制程技術(shù)上沖鋒陷陣，已經(jīng)成為光刻機(jī)龍頭 ASML 在 EUV 機(jī)臺(tái)上的最大采購(gòu)客戶(hù)，累計(jì)已經(jīng)購(gòu)買(mǎi)了 30 臺(tái) EUV 設(shè)備。日前，ASML 繼在韓國(guó)成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心后，也在臺(tái)積電先進(jìn)制程的重鎮(zhèn)臺(tái)灣臺(tái)南，成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心。一臺(tái)EUV系統(tǒng)需要50個(gè)工程師操作一臺(tái)造價(jià)逾一億歐元的精密 EUV 系統(tǒng)，重量高達(dá) 180&nbs
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Intel/臺(tái)積電/ASML齊捧EUV光刻：捍衛(wèi)摩爾定律

  • 日前，中國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)大會(huì)（CSTIC）在上海開(kāi)幕，為期19天，本次會(huì)議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。其中，光刻機(jī)一哥ASML（阿斯麥）的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進(jìn)工藝的設(shè)備，EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認(rèn)為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，截至2019年第四季度，ASML當(dāng)年共售出53臺(tái)EUV NXE：3400系列EUV光刻機(jī)，使用EUV機(jī)器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達(dá)到1000萬(wàn)片。他說(shuō)，EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
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5nm工藝起飛 ASML宣布全新半導(dǎo)體技術(shù)：產(chǎn)能大漲600%

  • 提到荷蘭ASML公司，大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商，7nm及以下的工藝生產(chǎn)都要靠他們的設(shè)備。不過(guò)ASML不只是光刻機(jī)厲害，今天他們宣布了另外一個(gè)新產(chǎn)品——第一代HMI多光束檢測(cè)機(jī)HMI eScan1000，適用于5nm及更先進(jìn)工藝，使得產(chǎn)能大漲600%。隨著制程工藝不斷提升，晶圓的制造也越來(lái)越復(fù)雜，這也會(huì)導(dǎo)致晶圓中的錯(cuò)誤更多，HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術(shù)的檢測(cè)系統(tǒng)，內(nèi)部也有復(fù)雜的光電子系統(tǒng)，能夠產(chǎn)生、控制多個(gè)電子束，然后根據(jù)反射回來(lái)的電子束成像來(lái)分析晶圓質(zhì)量，并有
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光刻機(jī)制造商ASML：疫情中公司訂單依然強(qiáng)勁

  • 據(jù)外媒報(bào)道，由于擔(dān)心新型冠狀病毒疫情帶來(lái)的不確定性，三星和臺(tái)積電的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績(jī)預(yù)期。不過(guò)，這家生產(chǎn)極紫外線(xiàn)(EUV)光刻設(shè)備的荷蘭公司補(bǔ)充說(shuō)，該公司的設(shè)備訂單依然強(qiáng)勁，需求也沒(méi)有變化。ASML首席執(zhí)行官彼得·溫寧克（Peter Wennink）說(shuō)：“需求前景沒(méi)有變化，今年我們沒(méi)有遇到任何推遲或取消交易的情況。盡管當(dāng)前形勢(shì)充滿(mǎn)挑戰(zhàn)，但到目前為止，我們能夠繼續(xù)保持正常業(yè)務(wù)?！钡珳貙幙搜a(bǔ)充說(shuō)：“目前新型冠狀病毒疫情將如何影響全球GDP發(fā)展、終端市場(chǎng)、我們的制造能力以及
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2021年ASML將推下一代EUV光刻機(jī) 面向2nm、1nm工藝

  • 作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺(tái)EUV光刻機(jī),主要用于臺(tái)積電、三星的7nm及今年開(kāi)始量產(chǎn)的5nm工藝,預(yù)計(jì)今年出貨35臺(tái)EUV光刻機(jī)。目前ASML出貨的光刻機(jī)主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C,兩者基本結(jié)構(gòu)相同,但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計(jì),維護(hù)更加便捷,平均維修時(shí)間將從48小時(shí)縮短到8-10小時(shí),支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的產(chǎn)能也從之前的125WPH(每小時(shí)處理晶圓數(shù))提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:
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