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敞開擁抱中國(guó)，荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML絲毫不受“大火”影響

  • 荷蘭光刻機(jī)霸主阿斯麥(ASML)公司公布了2018年第四季度及全年業(yè)績(jī)報(bào)告，而在當(dāng)天的聲明中，公司CEO彼得·維尼克(Peter Wennink)特別指出，中國(guó)對(duì)其產(chǎn)品的需求強(qiáng)勁，繼續(xù)看好對(duì)中國(guó)的出口。
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EUV需求巨大！ASML最新財(cái)報(bào)顯示今年將出貨30臺(tái)

  • 　　荷蘭當(dāng)?shù)貢r(shí)間1月23日，ASML發(fā)布了去(2018)年第四季度及全年的業(yè)績(jī)報(bào)告?！　?bào)告指出，去年第四季度凈銷售額為31億歐元，凈收入為7.88億歐元，毛利率為44.3%?！　【唧w來看，ASML指出，DUV光刻業(yè)務(wù)中，存儲(chǔ)客戶的需求使得TWINSCAN NXT:2000i保持著持續(xù)增長(zhǎng)。同時(shí)ASML也提高了該產(chǎn)品的可靠性，據(jù)了解，上一代產(chǎn)品需要六個(gè)月才能達(dá)到高可靠性，而該產(chǎn)品僅用了兩個(gè)月。　　去年全年，ASML凈銷售額為109億歐元，凈收入為26億歐元。　　值得注意的是，ASML已與尼康簽署了諒解
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全面起底ASML的EUV光刻技術(shù)

  • 　　用于高端邏輯半導(dǎo)體量產(chǎn)的EUV(Extreme Ultra-Violet，極紫外線光刻)曝光技術(shù)的未來藍(lán)圖逐漸“步入”我們的視野，從7nm階段的技術(shù)節(jié)點(diǎn)到今年(2019年，也是從今年開始)，每2年~3年一個(gè)階段向新的技術(shù)節(jié)點(diǎn)發(fā)展。　　　　高端邏輯半導(dǎo)體的技術(shù)節(jié)點(diǎn)和對(duì)應(yīng)的EUV曝光技術(shù)的藍(lán)圖?！　∫簿褪钦f，在EUV曝光技術(shù)的開發(fā)比較順利的情況下，5nm的量產(chǎn)日程時(shí)間會(huì)大約在2021年，3nm的量產(chǎn)時(shí)間大約在2023年。關(guān)于更先進(jìn)的2nm的技術(shù)節(jié)點(diǎn)，還處于模糊階段，據(jù)預(yù)測(cè)，其量產(chǎn)時(shí)間最快也是在2026
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中國(guó)首臺(tái)ASML NXT2000i正式入駐SK海力士無錫工廠

  • 　　12月19日晚間，中國(guó)首臺(tái)ASML NXT2000i正式搬入SK海力士位于無錫的工廠?！　?jù)ASML證實(shí)，此次入駐SK海力士無錫工廠確為NXT2000i，也即NXT2000。ASML解釋道，i是immersion的意思。NXT2000都是immersion的機(jī)器。所以NXT2000即NXT2000i?！　?jù)了解，無錫是SK海力士在中國(guó)的DRAM內(nèi)存芯片生產(chǎn)基地，目前每月晶圓的產(chǎn)量約為14萬片?！　⊥瑫r(shí)，SK海力士還成立了SK Hynix System IC公司，開始進(jìn)軍晶圓代工市場(chǎng)，同時(shí)增加100
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半導(dǎo)體設(shè)備廠商競(jìng)爭(zhēng)格局生變？

  • 　　半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商的排名在2016-2017年間沒有發(fā)生太大的變化，但是這種格局正在發(fā)生變化。不僅Lam Research、ASML和東京電子的位次發(fā)生調(diào)轉(zhuǎn)，排名第一的應(yīng)用材料公司的寶座位置也岌岌可危?！　∽?990年以來，應(yīng)用材料公司一直是半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)者。在此之前的1989年，坐在鐵王座位置上的還是日本的東京電子，該公司2016年排名第四，今年前三季度的新排名則是第二。除了位次的變化，也許更重要的是，領(lǐng)頭羊和第二名的差距正在迅速收窄?！　?016年，應(yīng)用材料公司的市場(chǎng)份額比Lam
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國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)真的這么厲害嗎？這些光刻機(jī)知識(shí)您得知道

  • 　　近日，中科院研制的“超分辨光刻裝備”通過驗(yàn)收。消息傳著傳著，就成了謠言——《國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)偉大突破，國(guó)產(chǎn)芯片白菜化在即》《突破荷蘭技術(shù)封鎖，彎道超車》《厲害了我的國(guó)，新式光刻機(jī)將打破“芯片荒”》……筆者幫您們捋一捋!　　關(guān)于光刻機(jī)，這些知識(shí)您得知道　　光刻機(jī)不光是制造芯片用。一張平面(不論硅片還是什么材料)想刻出繁復(fù)的圖案，都可以用光刻——就像照相，圖像投在感光底片上，蝕掉一部分。半個(gè)多世紀(jì)前，美國(guó)人用這個(gè)原理“印刷”電路，從而有了大規(guī)模集成電路——芯片。為了節(jié)能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻機(jī)越做越極
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ASML內(nèi)部“霍亂”，中國(guó)晶圓廠成為“首發(fā)受害者”

  • 　　11月30日晚上，荷蘭費(fèi)爾德霍芬的一個(gè)科技園區(qū)發(fā)生火災(zāi)，ASML的一家供應(yīng)商Prodrive遭受了重創(chuàng)，部分廠房與倉(cāng)庫(kù)遭受波及。12月3日，ASML發(fā)表聲明稱：“Prodrive供應(yīng)ASML的部分電子元件和模組，ASML初步評(píng)估至2018年底的出貨計(jì)劃不變，但預(yù)期部分2019年初的出貨將受影響?！盇SML還表示需要幾周的時(shí)間詳細(xì)評(píng)估該事件對(duì)公司的影響?！　SML目前已開始協(xié)助Prodrive重啟生產(chǎn)，同時(shí)ASML也已與其他供應(yīng)商接洽，以確保相關(guān)組件和材料的替代來源供應(yīng)無虞?！　?2月作為2018年最
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點(diǎn)亮中國(guó)“芯”，這件專利會(huì)是國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的錦鯉嗎？

  • 中美貿(mào)易大戰(zhàn)把當(dāng)今最先進(jìn)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)推上了風(fēng)口浪尖上，整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈上，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體芯片的產(chǎn)業(yè)發(fā)展就卡在IC制造這一塊上了。
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Imec與ASML聯(lián)手，EUV成主流技術(shù)工具

  • 　　日前，有消息稱，比利時(shí)研究機(jī)構(gòu)Imec和微影設(shè)備制造商ASML計(jì)劃成立一座聯(lián)合研究實(shí)驗(yàn)室，共同探索在后3nm邏輯節(jié)點(diǎn)的奈米級(jí)元件制造藍(lán)圖。此次雙方這項(xiàng)合作是一項(xiàng)為期五年計(jì)劃的一部份，分為兩個(gè)階段：　　首先是開發(fā)并加速極紫外光(EUV)微影技術(shù)導(dǎo)入量產(chǎn)，包括最新的EUV設(shè)備準(zhǔn)備就緒?！　∑浯螌⒐餐剿飨乱淮邤?shù)值孔徑(NA)的EUV微影技術(shù)潛力，以便能夠制造出更小型的奈米級(jí)元件，從而推動(dòng)3nm以后的半導(dǎo)體微縮?！　O紫外光(EUV)微影技術(shù)　　EUV光刻也叫極紫外光刻，它以波長(zhǎng)為10-14 nm的極紫外
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荷蘭的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)為何如此發(fā)達(dá)？

  • 荷蘭有著很好的經(jīng)濟(jì)基礎(chǔ)，同時(shí)產(chǎn)業(yè)完善，產(chǎn)業(yè)起步本來就早，同時(shí)對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)非常重視，注重商業(yè)的拓展和普及，而不只是在實(shí)驗(yàn)室弄研究。
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ASML看好中國(guó)市場(chǎng) 最先進(jìn)光刻機(jī)將入華

  • 　　中國(guó)集成電路制造年會(huì)近日邀請(qǐng)到了光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)中國(guó)區(qū)總裁沈波參加，他出面解答了一些媒體關(guān)心的話題?！　”M管UMC(聯(lián)電)和Globalfoundries(格羅方德，格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進(jìn)工藝的研發(fā)，但ASML依然對(duì)EUV光刻機(jī)的前景表示樂觀。　　此前有消息指出，中芯國(guó)際(SMIC)今年已向ASML訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)明年交付，用于7nm節(jié)點(diǎn)?！　⊥瑫r(shí)，傳統(tǒng)的沉浸式光刻機(jī)方面，沈波稱，今年下半年ASML已開始出貨家族最先進(jìn)的NXT：2000i，很快會(huì)在中國(guó)市場(chǎng)上也見到
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迫于美國(guó)政府壓力，光刻機(jī)巨頭荷蘭ASML被曝不再招收中國(guó)員工 ...

  • 　　在高科技領(lǐng)域，美國(guó)這一年來加強(qiáng)了對(duì)中國(guó)人的防范，不只限于美國(guó)本土，就連歐洲公司也受到了美國(guó)政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國(guó)籍員工?！　≡诠饪虣C(jī)領(lǐng)域，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機(jī)市場(chǎng)，在EUV光刻機(jī)中更是獨(dú)一份，7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機(jī)。在高科技領(lǐng)域，美國(guó)這一年來加強(qiáng)了對(duì)中國(guó)人的防范，不只限于美國(guó)本土，就連歐洲公司也受到了美國(guó)政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國(guó)籍員工。　　如果說半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是制造工業(yè)的皇冠，那么光刻機(jī)可以說是皇冠上的明珠，因?yàn)楣饪虣C(jī)是半導(dǎo)體制造中最關(guān)
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Entegris EUV 1010光罩盒展現(xiàn)極低的缺陷率，已獲ASML認(rèn)證

  • 　　業(yè)界領(lǐng)先的特種化學(xué)及先進(jìn)材料解決方案的公司Entegris(納斯達(dá)克：ENTG)日前發(fā)布了下一代EUV 1010光罩盒，用于以極紫外(EUV)光刻技術(shù)進(jìn)行大批量IC制造。Entegris的EUV 1010是與全球最大的芯片制造設(shè)備制造商之一的ASML密切合作而開發(fā)的，已在全球率先獲得ASML的認(rèn)證，用于NXE:3400B等產(chǎn)品?！　‰S著半導(dǎo)體行業(yè)開始更多地使用EUV光刻技術(shù)進(jìn)行先進(jìn)技術(shù)制程的大批量制造(HVM)，對(duì)EUV光罩無缺陷的要求比以往任何時(shí)候都要嚴(yán)格。Entegris的EUV 1010光罩盒已
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ASML出貨新光刻機(jī)NXT2000i：用于7nm/5nm DUV工藝

  • 　　據(jù)外媒報(bào)道，光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)已經(jīng)開始出貨新品Twinscan NXT：2000i DUV(NXT：2000i雙工件臺(tái)深紫外光刻機(jī))，可用于7nm和5nm節(jié)點(diǎn)?！　XT：2000i將是NXE：3400B EUV光刻機(jī)的有效補(bǔ)充，畢竟臺(tái)積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝。　　同時(shí)，NXT：2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產(chǎn)品，達(dá)到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求至少2.4nm，7nm要求至少3.5nm)?！　SML將于本季度末開始量產(chǎn)Twin
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中荷半導(dǎo)體“芯”對(duì)比

  • 荷蘭有恩智浦、ASML、飛利浦等世界領(lǐng)先的半導(dǎo)體企業(yè)，而國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)目前依舊薄弱。
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