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Soitec半導體公司和FD-SOI技術:選擇理想的企業(yè)和技術,助力中國創(chuàng)新藍圖
- 全球領先的絕緣硅(SOI)晶圓制造商法國Soitec半導體公司今日在北京舉辦的新聞發(fā)布會中介紹了該公司在中國市場的發(fā)展歷史、全耗盡絕緣硅(FD-SOI)基板的成熟性和生產(chǎn)及準備狀態(tài)、FD-SOI的最新進展及其生態(tài)系統(tǒng)。與會發(fā)言人包括Soitec公司市場和業(yè)務拓展部高級副總裁Thomas Piliszczuk, 以及Soitec公司數(shù)字電子商務部高級副總裁Christophe Maleville。會上主要討論的問題包括該技術是否適合各代工廠及應用設計師廣泛使用,更重要的是,該技術如何解決中國半導體行業(yè)及
- 關鍵字: Soitec FD-SOI
Leti從FD-SOI學到的一課:打造生態(tài)系統(tǒng)
- 今年由歐洲兩大主要研發(fā)中心——法國CEA-Leti和比利時IMEC舉辦的年度開放日活動剛好都在六月的同一時期舉行。但這種時程的沖突并不是有意的,至少Leti是這么認為。Leti的一位官方代表指出,“在過去七年來我們一直是在六月的同一周舉行年度活動。對他們來說,我們的排程應該不是什么秘密。” Leti位于法國格勒諾布爾市創(chuàng)新園區(qū)的核心地帶 不過,位于格勒諾布爾的Leti Days和位于布魯塞爾的IMEC技術論壇這兩大
- 關鍵字: FD-SOI 物聯(lián)網(wǎng)
格羅方德半導體推出業(yè)內(nèi)首個22nm FD-SOI工藝平臺
- 格羅方德半導體(GLOBAL FOUNDRIES)今日發(fā)布一種全新的半導體工藝,以滿足新一代聯(lián)網(wǎng)設備的超低功耗要求。“22FDX™”平臺提供的性能和功耗媲美FinFET,而成本則與28nm平面晶體管工藝相當,為迅速發(fā)展的移動、物聯(lián)網(wǎng)、RF連接和網(wǎng)絡市場提供了一個最佳解決方案。 雖然某些設備對三維FinFet晶體管的終極性能有要求,但大多數(shù)無線設備需要在性能、功耗和成本之間實現(xiàn)更好的平衡。22FDX 采用業(yè)內(nèi)首個22nm二維全耗盡平面晶體管技術(FD-SOI)工
- 關鍵字: 格羅方德 FD-SOI
GlobalFoundries全球首發(fā)22nm FD-SOI工藝
- GlobalFoundries今天宣布推出全新的“22FDX”工藝平臺,全球第一家實現(xiàn)22nm FD-SOI(全耗盡絕緣硅),專為超低功耗芯片打造。 FD-SOI技術仍然采用平面型晶體管, 目前并不為業(yè)內(nèi)看好,因為無論Intel還是三星、臺積電,22n時代起就紛紛轉入了立體晶體管,也就是FinFET。GlobalFoundries技 術實力欠佳,自己搞不出足夠好的立體晶體管技術,22nm上只能繼續(xù)改進平面型,20nm上努力了一陣放棄了,14nm索性直接借用三星的。
- 關鍵字: GlobalFoundries FD-SOI
Peregrine半導體公司在大中華市場推出UltraCMOS? 單片相位幅度控制器
- Peregrine半導體公司是射頻 SOI(絕緣體上硅)技術的奠基者和先進射頻解決方案的先驅(qū),宣布在大中華市場推出該公司的新系列UltraCMOS?單片相位和幅度控制器(MPAC)。MPAC產(chǎn)品中集成了一個90度混合分離器、移相器、數(shù)字步進衰減器以及一個數(shù)字SPI接口,全部做在一塊芯片上。與多芯片的砷化鎵(GaAs)解決方案比較,這種單片射頻控制器的線性度高,隔離性能好,能夠控制很大的功率,相位調(diào)諧靈活性極強,對于兩路動態(tài)負載調(diào)制放大器結構,例如多爾蒂(Doherty)功率放大器,是理想的射頻控制方案
- 關鍵字: Peregrine SOI MPAC
意法半導體(ST)發(fā)布2013年企業(yè)可持續(xù)發(fā)展報告
- 橫跨多重電子應用領域的全球領先的半導體供應商意法半導體公布了2013年可持續(xù)發(fā)展報告(Sustainability Report)。意法半導體連續(xù)17年公布可持續(xù)發(fā)展報告。報告內(nèi)容全面地介紹意法半導體在2013年實施的可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略、政策和業(yè)績,并例證了可持續(xù)發(fā)展計劃如何在企業(yè)經(jīng)營中發(fā)揮重要作用,為所有的利益相關者創(chuàng)造價值。 意法半導體公司總裁兼首席執(zhí)行官Carlo Bozotti表示:“意法半導體在很早之前就認識到了可持續(xù)發(fā)展的重要性,20年來,可持續(xù)發(fā)展已成為意法半導體核心戰(zhàn)略的
- 關鍵字: 意法半導體 FD-SOI 可持續(xù)發(fā)展
soi介紹
SOI(Silicon-On-Insulator,絕緣襯底上的硅)技術是在頂層硅和背襯底之間引入了一層埋氧化層。通過在絕緣體上形成半導體薄膜,SOI材料具有了體硅所無法比擬的優(yōu)點:可以實現(xiàn)集成電路中元器件的介質(zhì)隔離,徹底消除了體硅CMOS電路中的寄生閂鎖效應;采用這種材料制成的集成電路還具有寄生電容小、集成密度高、速度快、工藝簡單、短溝道效應小及特別適用于低壓低功耗電路等優(yōu)勢,因此可以說SO [ 查看詳細 ]
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