Hynix 44nm制程2Gb低功耗DDR2內(nèi)存芯片產(chǎn)品開發(fā)完成
韓國內(nèi)存廠商Hynix日前宣布他們已經(jīng)完成了2Gb密度低功耗DDR2內(nèi)存芯片產(chǎn)品的開發(fā),這款產(chǎn)品將主要面向移動設備,可在智能手機,平板電腦等移動設備上使用,Hynix并稱這種芯片將于今年上半年開始投入量產(chǎn)。
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/105093.htm
這款內(nèi)存芯片產(chǎn)品的數(shù)據(jù)傳輸率可達1066Mbps,并將以小型封裝(如MCP/POP封裝形式)的形式進行供貨。
Hynix宣稱這款芯片產(chǎn)品采用了44nm制程技術制作,工作電壓僅1.2V,位寬為32位的配置條件下,使用這種芯片的內(nèi)存系統(tǒng)帶寬可達4.26GB/s。另外,這種芯片的耗電量也比前代產(chǎn)品下降了50%左右。
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