芯片制造三巨頭的次世代光刻技術(shù)戰(zhàn)略對比分析
臺積電與Globalfoundries是一對芯片代工行業(yè)的死對頭,不過他們對付彼此的戰(zhàn)略手段則各有不同。舉例而言,在提供的產(chǎn)品方 面,Globalfoundries在28nm制程僅提供HKMG工藝的代工服務(wù)(至少從對外公布的路線圖上看是這樣),而相比之下,臺積電的28nm制 程則有HKMG和傳統(tǒng)的多晶硅柵+SION絕緣層兩種工藝可供用戶選擇。另外,兩者對待450mm技術(shù)的態(tài)度也不相同,臺積電是450mm的積極推進者, 而Globalfoundries及其IBM制造技術(shù)聯(lián)盟的伙伴們則對這項技術(shù)鮮有公開表態(tài)。不過我們今天分析討論的重點則是其次世代光刻技術(shù)方面的戰(zhàn)略異同。
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/117422.htm三家公司光刻技術(shù)策略的異同對比:
Globalfoundries,臺積電以及Intel三家在光刻技術(shù)方面的策略各有不同。其中臺積電一直對無掩模的電子束直寫技術(shù)最為熱衷,但是他們最近對EUV技術(shù)的態(tài)度忽然變得熱烈起來。而Intel則對EUV技術(shù)十分看重,將其視為下一代光刻技術(shù)的首選(Intel的EUV投入量產(chǎn)時間點大概也定在2015年左右,而具體對應的制程節(jié)點則可能會在10nm及更高等級,原因請參考我們的這篇文章),當然兩家公司對電子束直寫以及EUV也均有投入研究力量,但是側(cè)重點則有所不同而已。相比之下,Globalfoundries則與臺積電對比鮮明,他們對EUV技術(shù)顯得非常熱衷,不過他們對電子束直寫的態(tài)度最近開始變得熱烈起來。
傳統(tǒng)的光刻技術(shù)領(lǐng)域,臺積電主要使用ASML生產(chǎn)的光刻機,而Globalfoundries則腳踩ASML/尼康兩只船。自從45nm節(jié)點起,Globalfoundries便一直在使用193nm液浸式光刻機,他們認為193nm液浸式光刻技術(shù)至少可以沿用到20nm節(jié)點。相比之下Intel則32nm節(jié)點起才開始使用193nm液浸式光刻機,此前使用的是193nm干式光刻技術(shù),Intel曾經(jīng)表示過準備把193nm液浸式光刻技術(shù)沿用到10nm節(jié)點。
Globalfoundries的次世代光刻技術(shù)攻略詳述:20nm節(jié)點兩種光刻技術(shù)可選??
GlobalfoundriesEUV技術(shù)的熱衷程度與臺積電形成了鮮明的對比。去年Globalfoundries跳過ASML的預產(chǎn)型EUV光刻機,直接訂購了ASML的量產(chǎn)型EUV設(shè)備。據(jù)Globalfoundries高管Harry Levinson介紹,他們計劃在20nm節(jié)點為用戶提供分別采用兩種不同光刻技術(shù)的選擇。
第一個選擇是使用193nm液浸式光刻+雙重成像技術(shù)(以下簡稱193i+DP)制造的20nm制程產(chǎn)品,另外一個選擇則是使用EUV光刻技術(shù)制造的20nm制程產(chǎn)品。
據(jù)Harry Levinson表示,理論上講,193i+DP的光刻速度相對較慢,成本也相對較高,不過EUV光刻技術(shù)則急需解決曝光功率,掩模方面的問題。
Globalfoundries的計劃是2012年安裝自己從ASML訂購的量產(chǎn)型EUV光刻機,并于2014-2015年開始將EUV光刻技術(shù)投入量產(chǎn)。不過按照計劃,Globalfoundries會在2013年推出基于22/20nm制程的芯片產(chǎn)品。這樣推斷下來,至少在Globalfoundries將EUV光刻機投入量產(chǎn)的2014年前,他們的20nm制程產(chǎn)品只能使用193i+DP技術(shù)來制造。
不過Levinson并沒有透露20nm節(jié)點之后Globalfoundrie在量產(chǎn)用光刻技術(shù)的布局計劃,但令人稍感意外的是,他們最近似乎開始熱衷于研究電子束直寫等無掩模型的光刻技術(shù)。對小尺寸晶圓以及ASIC即專用集成電路器件而言,無掩模技術(shù)顯得更適合作為下一代光刻技術(shù)使用。
臺積電的次世代光刻技術(shù)攻略詳述:16nm節(jié)點還是未知數(shù)
與Globalfoundrie類似,臺積電也在40nm節(jié)點開始使用193i光刻技術(shù),臺積電計劃將這種技術(shù)沿用到28/20nm節(jié)點,至于16nm節(jié)點,臺積電則表示還在評估193i+DP,EUV以及無掩模光刻這三種技術(shù)的優(yōu)劣。
臺積電過去對EUV技術(shù)的熱乎勁一直不是很高,但是最近由于在無掩模光刻技術(shù)的研發(fā)上遇到一些困難,因此他們似乎又開始重視這種技術(shù)。臺積電納米成像部的副總裁林本堅表示:“臺積電16nm制程節(jié)點會是EUV或者無掩模光刻技術(shù)的二選一。而最終哪項技術(shù)會勝出則取決于其‘可行性’。”
臺積電不準備腳踏兩只船,同時走EUV和無掩模技術(shù)兩條路。他們曾一度大力支持無掩模技術(shù)的發(fā)展,并曾積極投資無掩模技術(shù)的設(shè)備廠商 Mapper Lithography,后者還曾在臺積電的研究設(shè)施中安裝了一臺5KeV功率的110-beam電子束光刻設(shè)備,并使用這臺機器成功造出了20nm制程級別的芯片。不過這臺機器仍為“Alpha”試驗型產(chǎn)品,不適合做量產(chǎn)使用。
但臺積電最近在光刻戰(zhàn)略上有了較大的轉(zhuǎn)變,他們最近從ASML那里訂購了一臺試產(chǎn)型NXE:3100 EUV光刻機,這臺光刻機將在今年早些時候安裝到臺積電的工廠中, 林本堅為此表示:“EUV技術(shù)的研發(fā)資金投入狀況更好一些,不過我們擔心研發(fā)成本問題。”
另外,臺積電也對EUV在曝光功率方面的問題表示擔憂。當然無掩模電子束光刻技術(shù)也碰上不少問題,比如如何解決數(shù)據(jù)量,產(chǎn)出量問題等。有人認為Mapper公司可能還需要再湊足3一美元左右的資金才可以開發(fā)出一臺量產(chǎn)型的電子束直寫設(shè)備。
那么臺積電在16nm節(jié)點究竟會采用哪一種次世代光刻技術(shù)呢?這個問題目前還得不出明確的答案。不過如果從各項技術(shù)所獲得的資源支持來看,EUV獲選的可能性似乎是最大的。林本堅表示:“這就像是一場龜兔賽跑,而富有的一方則是那只兔子。”他還表示:“我們已經(jīng)開始關(guān)注這個問題。”同時他還不無諷刺地表示,雖然市面上有許多研發(fā)無掩模光刻技術(shù)的廠商,但Globalfoundries目前還沒有找到能夠符合其要求的解決方案。
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