誰(shuí)才是IC大佬們的光刻技術(shù)最?lèi)?ài)？

　　臺(tái)積電過(guò)去對(duì)EUV技術(shù)的熱乎勁一直不是很高，但是最近由于在無(wú)掩模光刻技術(shù)的研發(fā)上遇到一些困難，因此他們似乎又開(kāi)始重視這種技術(shù)。臺(tái)積電納米成像部的副總裁林本堅(jiān)表示：“臺(tái)積電16nm制程節(jié)點(diǎn)會(huì)是EUV或者無(wú)掩模光刻技術(shù)的二選一。而最終哪項(xiàng)技術(shù)會(huì)勝出則取決于其‘可行性’。”

　　臺(tái)積電不準(zhǔn)備腳踏兩只船，同時(shí)走EUV和無(wú)掩模技術(shù)兩條路。他們?cè)欢却罅χС譄o(wú)掩模技術(shù)的發(fā)展，并曾積極投資無(wú)掩模技術(shù)的設(shè)備廠商MapperLithography，后者還曾在臺(tái)積電的研究設(shè)施中安裝了一臺(tái)5KeV功率的110-beam電子束光刻設(shè)備，并使用這臺(tái)機(jī)器成功造出了20nm制程級(jí)別的芯片。不過(guò)這臺(tái)機(jī)器仍為“Alpha”試驗(yàn)型產(chǎn)品，不適合做量產(chǎn)使用。

　　但臺(tái)積電最近在光刻戰(zhàn)略上有了較大的轉(zhuǎn)變，他們最近從ASML那里訂購(gòu)了一臺(tái)試產(chǎn)型NXE:3100EUV光刻機(jī),這臺(tái)光刻機(jī)將在今年早些時(shí)候安裝到臺(tái)積電的工廠中，林本堅(jiān)為此表示：“EUV技術(shù)的研發(fā)資金投入狀況更好一些，不過(guò)我們擔(dān)心研發(fā)成本問(wèn)題。”

　　另外，臺(tái)積電也對(duì)EUV在曝光功率方面的問(wèn)題表示擔(dān)憂(yōu)。當(dāng)然無(wú)掩模電子束光刻技術(shù)也碰上不少問(wèn)題，比如如何解決數(shù)據(jù)量，產(chǎn)出量問(wèn)題等。有人認(rèn)為Mapper公司可能還需要再湊足3一美元左右的資金才可以開(kāi)發(fā)出一臺(tái)量產(chǎn)型的電子束直寫(xiě)設(shè)備。

　　那么臺(tái)積電在16nm節(jié)點(diǎn)究竟會(huì)采用哪一種次世代光刻技術(shù)呢?這個(gè)問(wèn)題目前還得不出明確的答案。不過(guò)如果從各項(xiàng)技術(shù)所獲得的資源支持來(lái)看，EUV獲選的可能性似乎是最大的。林本堅(jiān)表示：“這就像是一場(chǎng)龜兔賽跑，而富有的一方則是那只兔子。”他還表示：“我們已經(jīng)開(kāi)始關(guān)注這個(gè)問(wèn)題。”同時(shí)他還不無(wú)諷刺地表示，雖然市面上有許多研發(fā)無(wú)掩模光刻技術(shù)的廠商，但Globalfoundries目前還沒(méi)有找到能夠符合其要求的解決方案。