新聞中心

EEPW首頁 > EDA/PCB > 業(yè)界動態(tài) > 中國集成電路制造業(yè)如何開啟自主模式?

中國集成電路制造業(yè)如何開啟自主模式?

作者: 時間:2017-07-31 來源:半導體行業(yè)觀察 收藏

  (Integrated Circuit,IC)是資訊時代的根基已成共識,但國內(nèi)一般仍普遍存在對這產(chǎn)業(yè)的不了解甚至誤解,這對其成長帶來一定的負面作用,本文希望能發(fā)揮些許科普引導作用。為便于理解,本文內(nèi)容除非必要,將盡量少談產(chǎn)品中復雜難懂的技術細節(jié),著重論述產(chǎn)業(yè)和其他制造業(yè)共通的環(huán)節(jié),希望能讓更多的人,即便不懂技術細節(jié),也能體會到除了產(chǎn)品不同之外,這個產(chǎn)業(yè)的經(jīng)營實際上和其他制造業(yè)并沒有太大差異,以拉近同這個行業(yè)的距離。同時也希望能讓產(chǎn)業(yè)中只專注某一專業(yè)的專家對其從事的行業(yè)有進一步宏觀的認識。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201707/362362.htm

  此外,筆者也想表達自己對下述事實的看法:為什么公認“世界工廠”的中國,盡管已有大量的投入,但是國產(chǎn)占全國使用的比例仍然很低?

  集成電路產(chǎn)業(yè)分類

  依專業(yè)區(qū)分,和整個集成電路產(chǎn)業(yè)相關的企業(yè)可以統(tǒng)計如下:無工廠電路設計業(yè)(fabless design company)、掩膜版制作業(yè)、技術開發(fā)服務業(yè)、生產(chǎn)業(yè)(foundry)、芯片測試業(yè)、晶粒封裝業(yè)、廠房設計/施工業(yè)、動力系統(tǒng)設計/施工業(yè)、材料生產(chǎn)業(yè)(包括、靶材、化學品、氣體等)、廢棄物處理業(yè),及支援這些企業(yè)的設備制造業(yè)、軟件開發(fā)業(yè)、分析工具開發(fā)業(yè)。當然也有一些企業(yè)同時從事數(shù)種上述專業(yè)的,如:IDM業(yè)者(Integrated Device Manufacturer,整合器件制造公司)同時從事電路設計、生產(chǎn)和芯片測試,有些也從事晶粒封裝。

  經(jīng)過多年的努力,中國這些企業(yè)已經(jīng)相當齊全,只是規(guī)模大多不大,特別是核心的產(chǎn)品設計、技術開發(fā)、材料生產(chǎn)、設備制造等各企業(yè)的規(guī)模占全球的份額仍然很低,技術能力和世界最高水平比較仍然存在較大的差距。

  集成電路制造環(huán)節(jié)

  上述這些企業(yè)支撐一塊集成電路“一生”從無到有,再到退出市場的全部歷程。整個歷程的順序可以分為以下環(huán)節(jié):

  ·整機生產(chǎn)業(yè)者依據(jù)終端用戶要求的整機產(chǎn)品性能,制定整機產(chǎn)品的規(guī)格;

  ·整機設計者依據(jù)整機產(chǎn)品規(guī)格制定所要使用的集成電路規(guī)格;

  ·電路設計者依據(jù)電路設計規(guī)格選定合適的生產(chǎn)工藝,并依據(jù)其對應的器件規(guī)格(device parameters)設計電路;

  ·布圖(layout)專家依據(jù)生產(chǎn)工藝對應的布圖規(guī)格(design rule)為設計的電路布圖;

  ·掩膜版制作業(yè)者依據(jù)布圖制作掩膜版;

  ·有時晶圓生產(chǎn)者會配合客戶需要,特別修改、增減原來選定的生產(chǎn)工藝,是為客戶定制工藝;

  ·晶圓生產(chǎn)業(yè)者依據(jù)確定的生產(chǎn)工藝生產(chǎn)工程試驗批(engineering lot),供電路設計者對產(chǎn)品的電路設計規(guī)格做認證。必要時對電路設計、掩膜版、生產(chǎn)工藝等環(huán)節(jié)加以修改,以優(yōu)化產(chǎn)品的良品率(yield);

  ·工程試驗批的良品率和可靠性達標后,開始小批量生產(chǎn)給客戶組裝整機樣品,做產(chǎn)品應用的認證,必要時對上述環(huán)節(jié)加以修改,以優(yōu)化良品率和可靠性(reliability);

  ·整機樣品的應用認證達標后,晶圓生產(chǎn)者開始大批量生產(chǎn),通過標準的品質(zhì)檢驗程序后出貨給整機組裝廠組裝整機,銷售給市場的終端用戶;

  ·從市場大量使用過程中得到真正的可靠性的反饋,必要時對上述環(huán)節(jié)加以修改,以優(yōu)化集成電路的可靠性;

  ·新產(chǎn)品出現(xiàn),原來產(chǎn)品逐漸退出市場。

  這其中產(chǎn)品設計和客戶定制工藝的開發(fā)和生產(chǎn)過程就是集成電路技術最核心的研發(fā)作業(yè)。一塊集成電路要能合格地被用來組裝整機在市場上流通,其研發(fā)成果都須要經(jīng)過不斷的認證,修改及優(yōu)化,這些過程非常復雜、牽涉到的專業(yè)非常多、使用的工具非常精密和昂貴、全部花的時間合起來短則數(shù)月長則數(shù)年。其中工程試驗批主要用來驗證產(chǎn)品是否符合電路設計規(guī)格;小批量生產(chǎn)主要用來驗證可靠性是否達標。在這兩個時期產(chǎn)品都還在驗證過程中,嚴格說來都還不是真正意義上的商品。只有可靠性通過完整的標準檢驗程序后,才能成為可以銷售的商品。

  這個過程和其他制造業(yè)開發(fā)新產(chǎn)品是一樣的——在成為商品大批量生產(chǎn)前,也同樣必須經(jīng)過產(chǎn)品設計、生產(chǎn)樣品、認證、生產(chǎn)、出貨、客訴處理等過程,只是內(nèi)容的繁簡和技術專業(yè)因產(chǎn)品不同而異。

  集成電路制造生產(chǎn)設備與科技

  在整個集成電路產(chǎn)業(yè)中,資金投入最多的是晶圓生產(chǎn)工廠的生產(chǎn)設備。一座裝備齊全有經(jīng)濟規(guī)模的先進生產(chǎn)工廠,大概包含有四、五十種用途不同上千臺的精密昂貴設備。這些設備牽涉到很多非常專業(yè)深奧的科技,下面僅對涉及到的類別做簡單介紹,具體細節(jié)暫不一一闡述:

  ·原子擴散、離子注入退火、和薄膜沉積及生長的高溫爐管;

  ·薄膜沉積、刻蝕及去除的氣態(tài)化學反應設備;

  ·表面除污、薄膜刻蝕及去除的液態(tài)化學反應槽;

  ·薄膜沉積的固態(tài)物理濺射設備;

  ·高真空、高電壓的離子注入機;

  ·精密光學成像的曝光機;

  ·精密拋光的化學機械研磨機;

  ·成像、成形后的檢驗機臺;

  ·器件和產(chǎn)品的電性量測機臺等。

  一塊集成電路“一生”從無到有,就是在這些設備之間來回反復操作數(shù)百多次的結果。這些生產(chǎn)技術的科學原理都很深奧,設備的設計都很復雜精密,因此負責的工程師都必須學有專精,加上在專業(yè)上以“工匠精神”經(jīng)年累月積累經(jīng)驗,才能做到專業(yè)能力與時俱進不掉隊,合格地執(zhí)行制造任務。

  技術取得:自力更生為主,技轉(zhuǎn)、并購為輔

  由于歷史的緣故,長期以來多數(shù)國人在心理上和現(xiàn)實上默認為技術的取得是依賴技術移轉(zhuǎn)(技轉(zhuǎn))或并購,造成疏于自行開發(fā)技術和產(chǎn)品經(jīng)驗的累積。

  技轉(zhuǎn)和并購確實可以比較快得到技術和市場,這對于應用周期長的技術或產(chǎn)品或許值得,但是對于變化快的技術或產(chǎn)品,技轉(zhuǎn)則意味著落后。因為為了保證技轉(zhuǎn)成功量產(chǎn),技術來源者提供的技術或產(chǎn)品一定是已經(jīng)成熟量產(chǎn)有些時候了的,而不是還在優(yōu)化并即將推出的下一代。如果技術接受方不能很快地接受、吸收、消化、創(chuàng)新、迎頭趕上,來源者將繼續(xù)維持領先的地位,要得到未來新的技術和產(chǎn)品都必須重新再談。

  進一步講,技轉(zhuǎn)或并購的機會并不常有,更何況現(xiàn)在西方國家對中國技轉(zhuǎn)和并購的管控越來越嚴格,要靠技轉(zhuǎn)先拉近差距再圖趕上的機會已越來越不容易。因此,技術取得必須“以自力更生為主,技轉(zhuǎn)、并購為輔”!


上一頁 1 2 下一頁

關鍵詞: 集成電路 晶圓

評論


相關推薦

技術專區(qū)

關閉