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碳化硅發(fā)展勢頭旺,英飛凌祭出650 V C oolSiC M O SFET

作者:王 瑩 時間:2020-03-30 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

王? 瑩? (《電子產(chǎn)品世界》編輯)

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202003/411480.htm

近期,多家公司發(fā)布了 (SiC)方面的新產(chǎn)品。作為新興 的第三代半導(dǎo)體材料之一, 具備哪些優(yōu)勢,現(xiàn)在的發(fā)展程度 如何?

不久前,的先驅(qū)英飛凌 科技公司推出了650 V 的 ,值此機(jī)會,電子產(chǎn)品世 界訪問了英飛凌電源與傳感系統(tǒng)事 業(yè)部大中華區(qū)開關(guān)電源應(yīng)用高級市 場經(jīng)理陳清源先生。 

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碳化硅與氮化鎵、硅材料的關(guān)系 

碳化硅MOSFET是一種新器 件,使一些以前硅材料很難被應(yīng)用 的電源轉(zhuǎn)換結(jié)構(gòu),例如電流連續(xù)模 式的圖騰柱 PFC(CCM mode Totem Pole PFC)成為可行,另外由于價格高于同等級的硅器件,所以市場上 對其應(yīng)用經(jīng)驗還需不斷積累增加。 好消息是碳化硅在使用上的技術(shù)門 檻并不高,相信假以時日,碳化硅 器件會用于服務(wù)器、數(shù)據(jù)中心、通 訊系統(tǒng),具體產(chǎn)品是開關(guān)電源、工 業(yè)電源、太陽能逆變器、UPS(不 間斷電源),電池化成(formation)電 源、充電樁等。 

與另一種寬帶隙器件氮化鎵 (GaN)相比,碳化硅器件商用歷 史更長,因此技術(shù)和市場的接受程 度都更加廣泛。 

英飛凌是市場上唯一能夠提供 涵蓋硅、碳化硅和氮化鎵等材料的 全系列功率產(chǎn)品的制造商。此次新 產(chǎn)品的發(fā)布意義之一在于:完善了 其600 V/650 V細(xì)分領(lǐng)域的硅基、 碳化硅以及氮化鎵功率半導(dǎo)體產(chǎn)品組合。 

那么,英飛凌如何平衡三者的 關(guān)系? 

陳清源經(jīng)理指出,不同的客戶 因為各自的應(yīng)用場景和技術(shù)儲備, 而對三種材料的器件有不同程度 的使用。硅材料由于技術(shù)成熟度最高,以及性價比方面的優(yōu)勢,所 以未來依然會是各個功率轉(zhuǎn)換領(lǐng)域的主要器件。而氮化鎵器件由于在 快速開關(guān)性能方面的優(yōu)勢,會在追 求高效和高功率密度的場合,例如 數(shù)據(jù)中心、服務(wù)器等,有較快的增 長。在三種材料中,碳化硅的溫度 穩(wěn)定性和可靠性都被市場驗證,所 以在對可靠性要求更高的領(lǐng)域,例 如汽車和太陽能逆變器等,可看到 較快的增長。 

650 V 的特點及工藝 

英飛凌650 V CoolSiC?MOSFET的額定值在(27~107) mΩ 之間,既可采用典型的TO-247 3 引腳封裝,也支持開關(guān)損耗更低的 TO-247 4引腳封裝。與過去發(fā)布的 所有英飛凌產(chǎn) 品相比,全新650 V系列基于先進(jìn) 的溝槽半導(dǎo)體技術(shù)。通過最大限度 地發(fā)揮碳化硅強(qiáng)大的物理特性,確 保了器件具有出色的可靠性、開關(guān) 損耗和導(dǎo)通損耗。此外,它們還具 備高的跨導(dǎo)水平(增益)、4 V的 閾值電壓(Vth)和短路穩(wěn)健性??偠?言之,溝槽技術(shù)可以在毫不折衷的 情況下,在應(yīng)用中實現(xiàn) 最低的損耗,并在運(yùn)行 中實現(xiàn)最佳可靠性。



關(guān)鍵詞: 202004 碳化硅 CoolSiC? MOSFET

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