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ASML最先進(jìn)EUV出貨,臺(tái)積電5納米有譜
- 全球半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商艾司摩爾(ASML)昨(20)日宣布,在臺(tái)積電(2330)、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下,最先進(jìn)的極紫外光(EUV)已連續(xù)四周平均妥善率逾八成,本季底前將完成三臺(tái)最新的EUV系統(tǒng)出貨。 EUV堪稱半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展以來最昂貴的設(shè)備,一臺(tái)售價(jià)高達(dá)9,000 萬歐元(約新臺(tái)幣36億元),這項(xiàng)設(shè)備也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向更先進(jìn)制程發(fā)展最關(guān)鍵設(shè)備,因此發(fā)展進(jìn)度,一直各界關(guān)注焦點(diǎn)。 臺(tái)積電共同執(zhí)行長(zhǎng)暨劉德音表示,臺(tái)積電本季將會(huì)再增購一臺(tái)EUV設(shè)備,不過臺(tái)積電將會(huì)于5奈米制程才會(huì)導(dǎo)入生產(chǎn)
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ASML接獲設(shè)備大單 EUV微影商用進(jìn)展邁大步
- 微影設(shè)備制造商ASML近期宣布,接獲美國(guó)一家主要客戶十五部EUV機(jī)臺(tái)訂單,并將于今年底開始陸續(xù)出貨;同時(shí)間,日本光阻材料大廠JSR也與IMEC合資成立新公司,致力生產(chǎn)EUV微影所需的光阻劑,為EUV微影技術(shù)的商用發(fā)展揭橥新的里程碑。 極紫外光微影(EUV Lithography)技術(shù)發(fā)展大有斬獲。半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)日前公開宣布,該公司與美國(guó)一家主要客戶已簽屬協(xié)議書,將提供至少十五臺(tái)的最新一代EUV微影系統(tǒng)機(jī)臺(tái),以支援不斷增加的制程開發(fā)活動(dòng)和未來世代制程的試量產(chǎn)。 雙方交易
- 關(guān)鍵字: ASML 微影系統(tǒng)
ASML估Q1營(yíng)收未達(dá)標(biāo)
- 歐洲最大半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾控股公司(ASML Holding NV NL-ASML)預(yù)估第1季營(yíng)收低于預(yù)期,并表示獲利能力將受到下一代極紫外光(EUV)系統(tǒng)訂單的箝制。 艾司摩爾今天在聲明稿中指出,預(yù)期2014年前3個(gè)月銷售凈額約14億歐元(18.8億美元)。相較之下,彭博社匯編12位分析師的預(yù)測(cè)均值為17.1億歐元。艾司摩爾預(yù)測(cè)毛利率42%左右,相較于調(diào)查預(yù)估中值42.5%。 艾司摩爾指出,首季利潤(rùn)率預(yù)測(cè)包括EUV系統(tǒng)的負(fù)面影響,若不含EUV,利潤(rùn)率將提高1.9個(gè)百分點(diǎn)。在
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為量產(chǎn)10nm制程鋪路 ASML攜手IMEC建置APC
- 艾司摩爾(ASML)與比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)合作案再添一樁。雙方將共同設(shè)立先進(jìn)曝光中心(Advanced Patterning Center, APC),助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突破10奈米(nm)以下先進(jìn)奈米曝光制程技術(shù)關(guān)卡,讓微影(Lithography)技術(shù)及其設(shè)備更臻成熟,加速制程微縮技術(shù)的商用化。 ASML總裁暨執(zhí)行長(zhǎng)Martin van den Brink表示,長(zhǎng)期以來,該公司與IMEC的合作,已促成半導(dǎo)體制程發(fā)展不斷突破;而此次的合作案,預(yù)期將進(jìn)一步加快先進(jìn)奈米制程技術(shù)及其相關(guān)設(shè)備
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ASML提升新EUV機(jī)臺(tái)技術(shù)生產(chǎn)效率
- 微影設(shè)備大廠ASML積極提升極紫外線(EUV)機(jī)臺(tái)技術(shù)的生產(chǎn)效率,在2012年購并光源供應(yīng)商Cymer后,大幅提升光源效率,從2009年至今光源效率分別為2009年2瓦、2010年5瓦、2011年10瓦,2012年提升至20瓦,目前已達(dá)55瓦,每小時(shí)晶圓產(chǎn)出片數(shù)為43片,預(yù)計(jì)2013年底前,可達(dá)到80瓦的目標(biāo),2015年達(dá)250瓦、每小時(shí)產(chǎn)出125片。 半導(dǎo)體生產(chǎn)進(jìn)入10納米后,雖然可采用多重浸潤(rùn)式曝光方式,但在一片晶圓上要進(jìn)行多次的微影制程曝光,將導(dǎo)致生產(chǎn)流程拉長(zhǎng),成本會(huì)大幅墊高,半導(dǎo)體大廠為
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莫大康:縮小半導(dǎo)體工藝尺寸能走多遠(yuǎn)?
- 推動(dòng)半導(dǎo)體業(yè)進(jìn)步有兩個(gè)輪子,一個(gè)是工藝尺寸縮小,另一個(gè)是硅片直徑增大,而且總是尺寸縮小為先。由半導(dǎo)體工藝路線圖看,2013年應(yīng)該進(jìn)入14納米節(jié)點(diǎn),觀察近期的報(bào)道,似乎已無異議,而且仍是英特爾挑起大樑。盡管摩爾定律快“壽終正寢”的聲音已不容置辯,但是14nm的步伐仍按期走來,原因究竟是什么? 傳統(tǒng)光刻技術(shù)與日俱進(jìn) 當(dāng)尺寸縮小到22/20nm時(shí),傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已無能力,必須采用輔助的兩次圖形曝光技術(shù)。 提高光刻的分辨率有3個(gè)途徑:縮短曝光波長(zhǎng)、增大鏡頭數(shù)值孔徑NA
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ASML:量產(chǎn)型EUV機(jī)臺(tái)2015年就位
- 極紫外光(EUV)微影技術(shù)將于2015年突破量產(chǎn)瓶頸。傳統(tǒng)浸潤(rùn)式微影技術(shù)在半導(dǎo)體制程邁入1x奈米節(jié)點(diǎn)后將面臨物理極限,遂使EUV成為產(chǎn)業(yè)明日之星。設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)已協(xié)同比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)和重量級(jí)晶圓廠,合力改良EUV光源功率與晶圓產(chǎn)出速度,預(yù)計(jì)2015年可發(fā)布首款量產(chǎn)型EUV機(jī)臺(tái)。 ASML亞太區(qū)技術(shù)行銷協(xié)理鄭國(guó)偉提到,ASML雖也同步投入E-Beam基礎(chǔ)研究,但目前對(duì)相關(guān)設(shè)備的開發(fā)計(jì)劃仍抱持觀望態(tài)度。 ASML亞太區(qū)技術(shù)行銷協(xié)理鄭國(guó)偉表示,ASML于2012年
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450毫米晶圓2018年量產(chǎn) 極紫外光刻緊隨
- 全球最大的半導(dǎo)體制造設(shè)備供應(yīng)商荷蘭ASML今天披露說,他們將按計(jì)劃在2015年提供450毫米晶圓制造設(shè)備的原型,Intel、三星電子、臺(tái)積電等預(yù)計(jì)將在2018年實(shí)現(xiàn)450毫米晶圓的商業(yè)性量產(chǎn),與此同時(shí),極紫外(EUV)光刻設(shè)備也進(jìn)展順利,將在今年交付兩套新的系統(tǒng)。 ASML在一份聲明中稱:“在客戶合作投資項(xiàng)目的支持下,我們已經(jīng)完成了用于極紫外、沉浸式光刻的450毫米架構(gòu)的概念設(shè)計(jì),將在2015年交貨原型,并兼容2018年的量產(chǎn),當(dāng)然如果整個(gè)產(chǎn)業(yè)來得及的話?!? Int
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半導(dǎo)體設(shè)備大廠ASML上季報(bào)喜 歐芯片股慶賀
- 歐洲半導(dǎo)體設(shè)備大廠荷商艾司摩爾(ASML)上季營(yíng)收凈利雙雙優(yōu)于預(yù)測(cè),并且維持今年前景看法,帶動(dòng)市場(chǎng)看好芯片業(yè)將展現(xiàn)復(fù)蘇預(yù)期,推升歐洲芯片股周四大漲。 艾司摩爾周四大漲4.85%至55.1歐元,在歐洲科技指數(shù)SX8P中表現(xiàn)居冠,德國(guó)芯片業(yè)者英飛凌(Infineon)躍升2.6%至5.58歐元,為漲幅第二大成份股。 艾司摩爾上季財(cái)報(bào)周三揭曉,營(yíng)收年減29%至8.92億歐元,稅前息前凈利年減66%至1.07億歐元,盡管數(shù)據(jù)皆向下衰退,但雙雙優(yōu)于市場(chǎng)預(yù)期。 艾司摩爾預(yù)估本季營(yíng)收約達(dá)11億歐元
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ASML上季報(bào)喜 歐芯片股慶賀
- 歐洲半導(dǎo)體設(shè)備大廠荷商艾司摩爾(ASML)上季營(yíng)收凈利雙雙優(yōu)于預(yù)測(cè),并且維持今年前景看法,帶動(dòng)市場(chǎng)看好芯片業(yè)將展現(xiàn)復(fù)蘇預(yù)期,推升歐洲芯片股周四大漲。 艾司摩爾周四大漲4.85%至55.1歐元,在歐洲科技指數(shù)SX8P中表現(xiàn)居冠,德國(guó)芯片業(yè)者英飛凌(Infineon)躍升2.6%至5.58歐元,為漲幅第二大成份股。 艾司摩爾上季財(cái)報(bào)周三揭曉,營(yíng)收年減29%至8.92億歐元,稅前息前凈利年減66%至1.07億歐元,盡管數(shù)據(jù)皆向下衰退,但雙雙優(yōu)于市場(chǎng)預(yù)期。 艾司摩爾預(yù)估本季營(yíng)收約達(dá)11億歐元
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ASML一季度凈利潤(rùn)9600萬歐元
- 國(guó)際頂級(jí)半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML2013年第一季度凈利潤(rùn)9600萬歐元,同時(shí)宣布Peter Wennink從七月一日起擔(dān)任CEO 一季度凈利潤(rùn)9600萬歐元 ASML第一季度的銷售額約為8億9千2百萬歐元,凈利潤(rùn)為9600萬歐元。 預(yù)期2013年全年銷售水平類似于2012年,第二季度比第一季度銷售額增加,下半年銷售強(qiáng)勁。同時(shí)ASML宣布將在2014年底之前回購高達(dá)10億歐元股份。 Peter Wennink從七月一日起擔(dān)任CEO 從2013年7月1日期,現(xiàn)任CFO Peter
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ASML攻新制程 傳將入股家登
- 家登(3680)受到全球半導(dǎo)體曝光機(jī)龍頭廠艾司摩爾(ASML)重視,繼成為ASML的供應(yīng)鏈后,最近傳出又有意入股家登,可望擴(kuò)大雙方合作關(guān)系。 市場(chǎng)近期傳出,ASML因應(yīng)半導(dǎo)體下一世代制程發(fā)展,為強(qiáng)化供應(yīng)鏈合作關(guān)系,有意入股投資在臺(tái)零組件供應(yīng)商家登。 家登發(fā)言體系昨天表示,不對(duì)單一客戶發(fā)表評(píng)論,目前沒有洽談投資案,但該公司對(duì)引進(jìn)策略合作關(guān)系抱持正面態(tài)度,保持開放與策略夥伴的對(duì)話空間。 家登為分散集中于服務(wù)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的風(fēng)險(xiǎn),近年積極布局傳載解決方案本業(yè)以外的第2和第3只腳,也就是跨足設(shè)備
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最先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備廠 要定臺(tái)灣人
- ASML全球卓越創(chuàng)新中心總監(jiān)趙中榛,當(dāng)年不顧公司抵制,是把部分制造移到臺(tái)灣的關(guān)鍵人物。(攝影:程思迪) ASML已把全球客服和設(shè)備生產(chǎn)交到臺(tái)灣人才手上, 現(xiàn)在連最先進(jìn)的18英寸設(shè)備,都要找臺(tái)灣人研發(fā)。 2012年,臺(tái)積電、英特爾(Intel)共同投資荷蘭半導(dǎo)體廠阿斯麥(ASML),整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)要仰賴這家公司設(shè)備,才能讓半導(dǎo)體制造成本降低。 但很少人知道,撐起ASML競(jìng)爭(zhēng)力的關(guān)鍵,其實(shí)是一群臺(tái)灣人,過去10年,ASML從客戶服務(wù)開始,逐步把業(yè)務(wù)交到臺(tái)灣人手上,2012年底,ASM
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