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Intel/臺(tái)積電/ASML齊捧EUV光刻:捍衛(wèi)摩爾定律
- 日前,中國國際半導(dǎo)體技術(shù)大會(huì)(CSTIC)在上海開幕,為期19天,本次會(huì)議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。其中,光刻機(jī)一哥ASML(阿斯麥)的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示,EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進(jìn)工藝的設(shè)備,EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認(rèn)為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示,截至2019年第四季度,ASML當(dāng)年共售出53臺(tái)EUV NXE:3400系列EUV光刻機(jī),使用EUV機(jī)器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達(dá)到1000萬片。他說,EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
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5nm工藝起飛 ASML宣布全新半導(dǎo)體技術(shù):產(chǎn)能大漲600%
- 提到荷蘭ASML公司,大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商,7nm及以下的工藝生產(chǎn)都要靠他們的設(shè)備。不過ASML不只是光刻機(jī)厲害,今天他們宣布了另外一個(gè)新產(chǎn)品——第一代HMI多光束檢測(cè)機(jī)HMI eScan1000,適用于5nm及更先進(jìn)工藝,使得產(chǎn)能大漲600%。隨著制程工藝不斷提升,晶圓的制造也越來越復(fù)雜,這也會(huì)導(dǎo)致晶圓中的錯(cuò)誤更多,HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術(shù)的檢測(cè)系統(tǒng),內(nèi)部也有復(fù)雜的光電子系統(tǒng),能夠產(chǎn)生、控制多個(gè)電子束,然后根據(jù)反射回來的電子束成像來分析晶圓質(zhì)量,并有
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光刻機(jī)制造商ASML:疫情中公司訂單依然強(qiáng)勁
![](http://editerupload.eepw.com.cn/202004/1586958298478217.jpg)
- 據(jù)外媒報(bào)道,由于擔(dān)心新型冠狀病毒疫情帶來的不確定性,三星和臺(tái)積電的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績(jī)預(yù)期。不過,這家生產(chǎn)極紫外線(EUV)光刻設(shè)備的荷蘭公司補(bǔ)充說,該公司的設(shè)備訂單依然強(qiáng)勁,需求也沒有變化。ASML首席執(zhí)行官彼得·溫寧克(Peter Wennink)說:“需求前景沒有變化,今年我們沒有遇到任何推遲或取消交易的情況。盡管當(dāng)前形勢(shì)充滿挑戰(zhàn),但到目前為止,我們能夠繼續(xù)保持正常業(yè)務(wù)。”但溫寧克補(bǔ)充說:“目前新型冠狀病毒疫情將如何影響全球GDP發(fā)展、終端市場(chǎng)、我們的制造能力以及
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2021年ASML將推下一代EUV光刻機(jī) 面向2nm、1nm工藝
- 作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺(tái)EUV光刻機(jī),主要用于臺(tái)積電、三星的7nm及今年開始量產(chǎn)的5nm工藝,預(yù)計(jì)今年出貨35臺(tái)EUV光刻機(jī)。目前ASML出貨的光刻機(jī)主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C,兩者基本結(jié)構(gòu)相同,但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計(jì),維護(hù)更加便捷,平均維修時(shí)間將從48小時(shí)縮短到8-10小時(shí),支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的產(chǎn)能也從之前的125WPH(每小時(shí)處理晶圓數(shù))提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:
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EUV市場(chǎng)供不應(yīng)求,ASML或取代應(yīng)材登全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭
- 根據(jù)外媒報(bào)導(dǎo),已經(jīng)多年蟬聯(lián)全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭的美商應(yīng)材公司(Applied Materials),2019年可能將其龍頭寶座,讓給以生產(chǎn)半導(dǎo)體制造過程中不可或缺曝光機(jī)的荷蘭ASML,原因是受惠即紫外光刻設(shè)備(EUV)的市場(chǎng)需求大增,進(jìn)一步拉抬了ASML的市占率表現(xiàn)。
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EUV光刻機(jī)需求強(qiáng)勁:ASML超應(yīng)用材料成全球第一大半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)
- 用了將近30年的時(shí)間,荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML(阿斯麥)終于要超過Applied Materials(美國應(yīng)用材料公司),成為全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)。
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ASML第三季接23臺(tái)EUV系統(tǒng)訂單
- ASML近日發(fā)布2019年第3季財(cái)報(bào)。根據(jù)財(cái)報(bào)顯示,ASML在2019年第3季銷售凈額(net sales)為30億歐元,凈收入(net income)為6.27億歐元,毛利率(gross margin)43.7%。
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ASML除了光刻機(jī)還有什么秘密武器
![](http://editerupload.eepw.com.cn/201903/fb552d735c070d74e12f2bb61997136a.png)
- ASML( Advanced Semiconductor Material Lithography)是半導(dǎo)體光刻系統(tǒng)的主要供應(yīng)商,也是EUV系統(tǒng)的唯一供應(yīng)商。根據(jù)Network題為“Sub 100nm光刻:市場(chǎng)分析與戰(zhàn)略問題”的報(bào)道,ASML當(dāng)前取得的成績(jī)可以匯總為以下幾點(diǎn): 1)ASML占據(jù)EUV光刻市場(chǎng)100%的份額; 2)ASML占據(jù)浸沒式193nm DUV光刻市場(chǎng)93%的份額; 3)ASML占據(jù)248nm DUV光刻行業(yè)73%的份額?! ?016年,ASML以31億美元收購了He
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EUV需求巨大!ASML最新財(cái)報(bào)顯示今年將出貨30臺(tái)
- 荷蘭當(dāng)?shù)貢r(shí)間1月23日,ASML發(fā)布了去(2018)年第四季度及全年的業(yè)績(jī)報(bào)告?! ?bào)告指出,去年第四季度凈銷售額為31億歐元,凈收入為7.88億歐元,毛利率為44.3%?! 【唧w來看,ASML指出,DUV光刻業(yè)務(wù)中,存儲(chǔ)客戶的需求使得TWINSCAN NXT:2000i保持著持續(xù)增長(zhǎng)。同時(shí)ASML也提高了該產(chǎn)品的可靠性,據(jù)了解,上一代產(chǎn)品需要六個(gè)月才能達(dá)到高可靠性,而該產(chǎn)品僅用了兩個(gè)月?! ∪ツ耆辏珹SML凈銷售額為109億歐元,凈收入為26億歐元。 值得注意的是,ASML已與尼康簽署了諒解
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全面起底ASML的EUV光刻技術(shù)
![](http://editerupload.eepw.com.cn/201901/ca8b3b0d86bbe437c567e0f81459979d.png)
- 用于高端邏輯半導(dǎo)體量產(chǎn)的EUV(Extreme Ultra-Violet,極紫外線光刻)曝光技術(shù)的未來藍(lán)圖逐漸“步入”我們的視野,從7nm階段的技術(shù)節(jié)點(diǎn)到今年(2019年,也是從今年開始),每2年~3年一個(gè)階段向新的技術(shù)節(jié)點(diǎn)發(fā)展?! 「叨诉壿嫲雽?dǎo)體的技術(shù)節(jié)點(diǎn)和對(duì)應(yīng)的EUV曝光技術(shù)的藍(lán)圖。 也就是說,在EUV曝光技術(shù)的開發(fā)比較順利的情況下,5nm的量產(chǎn)日程時(shí)間會(huì)大約在2021年,3nm的量產(chǎn)時(shí)間大約在2023年。關(guān)于更先進(jìn)的2nm的技術(shù)節(jié)點(diǎn),還處于模糊階段,據(jù)預(yù)測(cè),其量產(chǎn)時(shí)間最快也是在2026
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