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32nm制程用沉浸光刻設備客戶需求量劇增：ASML公司召回先前遭辭退員工

  • 　　據(jù)荷蘭ASML公司高管透露，由于最近半導體廠商對沉浸式光刻設備的需求量劇增，著名光刻廠商ASML公司最近重新召回了先前辭退的700名員工，同時還 招聘了數(shù)百名新員工，這名高管表示ASML公司還需要再增加300名員工，同時還預計公司將可保證各個客戶對光刻設備的訂單需求。 　　由于消費電子設備以及PC市場對高密度芯片的需求在不斷上升，ASML公司的高管表示他預計他的客戶們在今明兩年不會碰上所生產(chǎn)的芯片產(chǎn)品供過于求的情況。 　　據(jù)ASML公司今年一季度公布的財報數(shù)據(jù)顯示，這家光刻廠商今年一季度末的N
  • 關鍵字： ASML  32nm  光刻設備  

聯(lián)電計劃發(fā)行12.98億新股募資190億新臺幣

  • 　　據(jù)臺灣媒體報道，聯(lián)電近日宣布，將發(fā)動公司成立30年來首次私募案。業(yè)界揣測，聯(lián)電將藉此引進新策略伙伴，對象包括整合元件制造廠德儀 (TI)、設備大廠ASML，以及新崛起的同業(yè)Global Foundries(GF)等，再次挑戰(zhàn)臺積電。 　　半導體產(chǎn)業(yè)景氣佳，晶圓代工廠聯(lián)電積極擴產(chǎn)，南科12寸廠第3、4期廠房20日完工啟用。聯(lián)電董事會同時決議，辦理12.98億股額度私募增資案，換算相當公司已發(fā)行股數(shù)的一成，每股面額10元。以聯(lián)電前天收盤價計算，最多可募得逾190億元資金。 　　聯(lián)電發(fā)言人劉啟東坦言，&
  • 關鍵字： 聯(lián)電  晶圓代工  ASML  Global Foundries  

未來三年內(nèi)存價格將持續(xù)攀升

  • 　　DRAMeXchange傳來噩耗稱內(nèi)存芯片的價格在未來三年內(nèi)將持續(xù)走高。這家市場分析公司將內(nèi)存產(chǎn)業(yè)的興衰周期定為3年左右，據(jù)該公司的分析師表示，2001-2003年，內(nèi)存業(yè)者一直處在虧損期，而2004-2006年則恢復為持續(xù)盈利的狀態(tài)，2007-2009年間則再度出現(xiàn)虧損期，因此他們預計從2010年開始，在全球經(jīng)濟危機緩和，Windows7日漸流行等因素的影響下，內(nèi)存業(yè)者將再度扭虧為盈，進入新的一輪三年盈利期。 　　不過內(nèi)存業(yè)者仍然面臨另外一個重要的難題，他們要將制程水品提升到50nm以上級別則一般
  • 關鍵字： ASML  光刻  內(nèi)存芯片  

ASML第一季訂單大幅超越預期 對半導體行業(yè)復蘇抱信心

  • 　　荷蘭半導體設備生產(chǎn)商ASML日前公布，第一季營收為7.42億歐元，優(yōu)于路透調(diào)查得到的分析師預估值7.13億歐元。 　　第一季機器訂單總量為50部，總價值為10億歐元，路透調(diào)查預估分別為43部和10億歐元。 　　首席執(zhí)行官Eric Meurice在聲明中稱：“我們第一季訂單總值為10.04億歐元，預計第二季訂單水準類似，這證實了半導體行業(yè)正處于上升周期。” 　　分析師將ASML訂單情況視作衡量芯片制造大企業(yè)預期的風向標。 　　第一季凈利為1.07億歐元，路透調(diào)查得到的分析
  • 關鍵字： ASML  半導體設備  芯片制造  

ASML第一季訂單量繼續(xù)增長

  • 　　荷蘭半導體設備生產(chǎn)商ASML的訂單狀況顯示今年第一季情況繼續(xù)好轉(zhuǎn)，投資者將詳細審視該公司業(yè)績，以尋找芯片行業(yè)結構性復蘇的跡象。 　　分析師將該公司的訂單情況視作英特爾和臺積電等大型芯片生產(chǎn)商業(yè)績預估的風向標。 　　根據(jù)路透調(diào)查，第一季半導體光刻設備訂單料為43筆，多于前一季的40筆。 　　ASML是全球最大的光刻設備生產(chǎn)商，其競爭對手包括日本的Nikon和佳能。 　　分析師預計ASML第一季凈利為9,900萬歐元(1.324億美元)，營收為7.13億歐元。15位分析師的營收預估范圍為5.90億
  • 關鍵字： ASML  光刻  

去年光刻機市場銷量總體下跌47%

  • 　　據(jù) Information Network報道，繼2008年銷量下跌25%之后，2009年全球半導體光刻工具的銷量進一步下跌了47%。按銷售數(shù)量計算，去年光刻工具的銷量總和下降了54%，其中248nm DUV光刻機的銷量下降的最嚴重，售出的數(shù)量下跌了70%。 　　去年光刻機銷售營收最高的是ASML公司，其所占的市場營收份額達到50%，而尼康公司則在銷售的光刻機數(shù)量方面保持領先，其售出的光刻機數(shù)量占到了總量的56%。而2008年，ASML公司則在銷售營收和銷售機臺數(shù)量上均排在頭名。
  • 關鍵字： ASML  光刻工具  

半導體能支撐未來的發(fā)展

  • 　　相比于2009年今年全球半導體業(yè)的態(tài)勢好了許多，但是仍有少部分人提出質(zhì)疑，2010年有那么好嗎?即具備條件了嗎? 　　在今年1月由SEMI主辦的工業(yè)策略年會上(ISS)，有些演講者表示一些擔憂，認為雖然半導體業(yè)正在復蘇的路上，但是制造商們?nèi)匀鄙偌で?，不肯繼續(xù)大幅的投資，以及不太愿意重新擴大招慕員工。 　　恐怕更大的擔心來自全球半導體業(yè)間的兼并與重組到來，以及產(chǎn)業(yè)能否支持得起22納米及以下技術的進步。 　　IBS的CEO Handle Jones認為，雖然工業(yè)正在復蘇，但是在半導體業(yè)運營中仍面臨成
  • 關鍵字： ASML  半導體  EUV  

臺積電取得ASML超紫外光微影設備以研發(fā)新世代工藝

  • 　　TSMC與荷蘭艾司摩爾(ASML)公司今日共同宣布，TSMC將取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影設備，是全球六個取得這項設備的客戶伙伴之一。 　　這項設備將安裝于TSMC的超大晶圓廠(GigaFab™)-臺積十二廠，用以發(fā)展新世代的工藝技術。TSMC也將成為全球第一個可以在自身晶圓廠發(fā)展超紫外光微影技術的專業(yè)集成電路制造服務業(yè)者。 　　相較于現(xiàn)行浸潤式微影技術以193納米波長當作光源，超
  • 關鍵字： 臺積電  EUV  微影設備  ASML  

半導體設備行業(yè)：全面走出陰影

  • 　　10月是收獲的季節(jié)，對全球半導體設備行業(yè)來說，這句話同樣適用。經(jīng)歷了全球經(jīng)濟危機后，各大設備公司10-11月公布的季度報表開始全面飄紅。 　　Applied Materials 11月11日公布的09年第4季財報顯示公司已扭虧為盈，凈收入實現(xiàn)1.38億美元，而上季虧損為5500萬美元。其Q4銷售額為15.3億美元，其中半導體設備銷售占6.56億美元，公司同時已收到了6.29億美元的半導體設備新訂單。 　　ASML總裁兼CEO Eric Meurice 更是喜不自勝，因為在10月14日公布的09
  • 關鍵字： ASML  半導體設備  

光刻巨頭ASML四季度來首次盈利

  • 　　隨著芯片廠商設備訂單的恢復，歐洲最大的半導體設備制造商ASML報出了2930萬美元的凈利潤，為四個季度來首次盈利。 　　ASML在今天的聲明中表示該公司第三季度凈利潤為1970萬歐元(2930萬美元)，即每股5歐分，低于去年同期7330萬歐元的利潤水平。不過這超過了彭博社調(diào)查7位分析師所得出的1060萬歐元的市場預期。 　　該公司首席執(zhí)行官埃里克·莫里斯(EricMeurice)表示，ASML的設備可以讓芯片客戶生產(chǎn)出尺寸更小的芯片，隨著客戶在設備投資上恢復投入，該公司本季度銷售額將
  • 關鍵字： ASML  光刻  半導體設備  

ASML：客戶下單增溫　微顯影設備2010年成長30%

  • 　　半導體市場回溫，ASML市場智庫總監(jiān)Antonio Mesquida Küsters表示，客戶對設備下單需求增溫，他引用研究機構預測，2010年半導體微顯影設備可望成長30%至少達到40億歐元。尤其晶圓代工領域，經(jīng)過18個月的壓低資本支出，現(xiàn)在業(yè)者更積極投資擴充產(chǎn)能，他個人亦樂見臺積電積極擴充產(chǎn)能，滿足客戶投單需求的做法。 　　Küsters表示，2008 年是變動相當劇烈的一年，回顧2007年時研究機構還對2008年奧運所帶來的商機相當樂觀，孰料DRAM價格快速崩落約65%，緊
  • 關鍵字： ASML  DRAM  晶圓代工  

2010決勝年　ASML 主攻38納米、EUV設備

  • 　　全球最大半導體微顯影設備業(yè)者ASML表示，目前客戶訂單增加相當多，但主是來自半導體業(yè)者制程微縮而非產(chǎn)能擴充的需求，半導體業(yè)者仍持續(xù)微縮半導體制程，摩爾定律預料將持續(xù)延續(xù)。以目前ASML最先進的浸潤式微顯影機種來看，新一代的機種NXT 1950i 也已于2009年下半出貨，未來將快速增加出貨，同時深紫外光(EUV)也至少囊括5套客戶訂單，對ASML來說2010年將是極重要的一年。 　　ASML NXT技術平臺資深經(jīng)理Frank van de Mast指出，XT1900Hi的下一代機種NXT 1950i
  • 關鍵字： ASML  38納米  EUV設備  

EUV: 一場輸不起的賭局

  • 　　2010年， ASML將有5臺最先進的EUV設備整裝發(fā)往全球的5家客戶。業(yè)界傳言，最新的NXE3100系統(tǒng)將發(fā)送給3家頂級存儲器廠商和2家頂級邏輯廠商。EUV勝利的曙光正在向我們招手，雖然目前工程師們還在荷蘭Veldhoven專為EUV新建的大樓中忙碌，在設備出廠前，解決正在發(fā)生的問題，并預測著各種可能發(fā)生的問題及解決方案。 　　人們談論EUV的各種技術問題已歷時數(shù)年，因為其波長較目前的193nm縮短10倍以上，EUV一直是通往22nm的實力派參賽選手之一。與此同時，延伸immersion技術，用其
  • 關鍵字： ASML  EUV  22nm  

EUV蓄勢待發(fā) Carl Zeiss向ASML出貨EUV光學系統(tǒng)

  • 　　德國Carl Zeiss SMT AG已向半導體設備商ASML出貨首臺EUV光學系統(tǒng)。該公司已使EUV光學系統(tǒng)達到了生產(chǎn)要求。 　　光學系統(tǒng)是EUV設備的核心模塊，首臺EUV設備預計將在2010年出貨。幾周前，美國公司Cymer完成了EUV光源的開發(fā)，EUV光源是EUV光刻設備另一個關鍵模塊。該技術將使芯片制造商進一步縮小芯片的特征尺寸，提高生產(chǎn)效率。 　　據(jù)Carl Zeiss 介紹，目前出貨的光學系統(tǒng)已經(jīng)研發(fā)了約15年。
  • 關鍵字： ASML  EUV  光刻設備  

ASML一體化光刻解決方案延續(xù)摩爾定律

  • 　　ASML集團公司在美國舊金山舉行的SEMICON West展會上發(fā)布多項全新光刻設備，讓芯片制造商能夠繼續(xù)縮小半導體器件尺寸。FlexRay™ (可編程照明技術)和BaseLiner™ (反饋式調(diào)控機制)為ASML一體化光刻技術 (holistic lithography)的一部分，具有高穩(wěn)定性，能夠優(yōu)化和穩(wěn)定制造工藝。 　　半導體行業(yè)發(fā)展的推動力量來自小型化趨勢，以降低生產(chǎn)成本，同時提高器件性能。不過，隨著半導體器件尺寸的縮小，工藝窗口(生產(chǎn)出合格芯片的工藝允許偏差)也相應
  • 關鍵字： ASML  FlexRay  BaseLiner  Eclipse  
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