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ASML載具供應(yīng)商家登精密談中國EUV的發(fā)展,面臨諸多挑戰(zhàn)
- 載具對于曝光機發(fā)揮保護、運送和存儲光罩等功能十分重要。家登精密多年來致力于研究曝光機載具,并為全球最大的半導體設(shè)備制造商ASML提供載具相關(guān)技術(shù)。 我們主要研究EUV的配套技術(shù),例如EUV的載具以及EUV的配套光罩,是7nm向5nm進階的突破口。隨著5nm技術(shù)的升級,EUV的重要性逐漸凸顯出來,而載具的研究也越發(fā)緊迫。過去幾年,家登精密一直專心做一件事,那就是載具的配套研究。去年,我們的技術(shù)產(chǎn)品已經(jīng)達到國際先進水平,這是一個值得自豪的成績。未來,7nm工藝逐漸向5nm升級,技術(shù)的研究會越來越困難
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看好中國半導體產(chǎn)業(yè)騰飛,ASML南京分公司近日開業(yè)
- 據(jù)南京日報報道,8月18日,全球最大芯片光刻設(shè)備市場供貨商阿斯麥(ASML)在南京的分公司正式開業(yè)。作為臺積電的重要合作伙伴及上游供應(yīng)商,該企業(yè)選擇落戶在南京江北新區(qū)研創(chuàng)園孵鷹大廈。 跟隨臺積電的步伐,ASML在南京的布局在一年前啟動。去年11月考察江北新區(qū)研創(chuàng)園后,被園區(qū)前端的產(chǎn)業(yè)定位、創(chuàng)新的整體設(shè)計、完善的軟硬件配套所吸引。今年8月,ASML南京分公司完成了750平米辦公設(shè)施搭建,以及服務(wù)工程師、裝機工程師、應(yīng)用工程師等多職能覆蓋的團隊組建。談及ASML未來對中國半導體市場前景的展望,該公司
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EUV在手天下我有 ASML二季度表現(xiàn)亮眼
- 全球最大芯片光刻設(shè)備市場供貨商阿斯麥(ASML)近日公布2017第二季財報。ASML第二季營收凈額21億歐元,毛利率為45%。在第二季新增8臺EUV系統(tǒng)訂單,讓EUV光刻系統(tǒng)的未出貨訂單累積到27臺,總值高達28億歐元。 預估2017第三季營收凈額約為22億歐元,毛利率約為43%。因為市場需求和第二季的強勁財務(wù)表現(xiàn),ASML預估2017全年營收成長可達25%。 ASML總裁暨執(zhí)行長溫彼得指出:“ASML今年的主要營收貢獻來自內(nèi)存芯片客戶,尤其在DRAM市場需求的驅(qū)動下,這部分的
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尼康起訴ASML和卡爾蔡司光刻技術(shù)侵權(quán) 要求賠償
- 北京時間4月24日晚間消息,尼康今日宣布,已對荷蘭半導體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商阿斯麥(ASML)和德國光學及光電子學設(shè)備廠商卡爾蔡司(Carl Zeiss)提起訴訟,指控這兩家公司未經(jīng)授權(quán)而使用其光刻技術(shù)。 尼康稱,已在荷蘭、德國和日本對阿斯麥和卡爾蔡司提起訴訟??柌趟臼前⑺果湹墓鈱W設(shè)備供應(yīng)商。尼康在一份聲明中稱:“阿斯麥和卡爾蔡司在未經(jīng)尼康許可的前提下,在阿斯麥的光刻系統(tǒng)中使用尼康的專利技術(shù)。” 當前,光刻系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用于制造半導體,而阿斯麥又主導著半導體光刻機市場
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光刻機領(lǐng)域國內(nèi)接近世界先進水平,9nm線寬光刻實現(xiàn)突破
- SEMICON China 2017開幕日即3月14日,上海微電子裝備(集團)股份有限公司(后簡稱“SMEE”)宣布,SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU),為雙方進一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。 根據(jù)這項合作備忘錄,ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進行采購的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發(fā)中心(ICRD)宣布合作之后,進一步深入?yún)⑴c中國的IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。 光刻機被稱
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上海微電子與芯片制造設(shè)備廠商ASML簽署戰(zhàn)略合作備忘錄
- 3月14日,上海微電子裝備(集團)股份有限公司(SMEE)宣布,與世界領(lǐng)先的芯片制造設(shè)備的領(lǐng)先廠商阿斯麥 (ASML) 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU),為雙方進一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。 根據(jù)這項合作備忘ASML和SMEE將探索就ASML光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進行采購的可能性。 “全球IC行業(yè)都在積極尋求技術(shù)藍圖進來一步縮小芯片尺寸,為商業(yè)和消費者用戶提供更性能更強但節(jié)能的電子組件。這一技術(shù)藍圖的有效執(zhí)行需要精密復雜的制造技術(shù),這只能靠各領(lǐng)先公司、研究機構(gòu)和院
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半導體押寶EUV ASML突破瓶頸 預計2018年可用于量產(chǎn)
- 摩爾定律(Moore’s Law)自1970年代左右問世以來,全球半導體產(chǎn)業(yè)均能朝此一定律規(guī)則前進發(fā)展,過去數(shù)十年來包括光微影技術(shù)(Photolithography)等一系列制程技術(shù)持續(xù)的突破,才得以讓半導體產(chǎn)業(yè)能依照摩爾定律演進,進而帶動全球科技產(chǎn)業(yè)研發(fā)持續(xù)前進。 但為延續(xù)產(chǎn)業(yè)良性發(fā)展,光是依賴于傳統(tǒng)微影技術(shù)仍不夠,因此芯片制造商也正在苦思試圖進行一次重大且最具挑戰(zhàn)的變革,即發(fā)展所謂的“極紫外光”(EUV)微影技術(shù),該技術(shù)也成為臺積電、英特爾(Intel)等
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尼康半導體曝光設(shè)備死于自我封閉?
- 日本光學及半導體設(shè)備大廠尼康(Nikon)未來可能進行人事調(diào)整,以數(shù)位相機及半導體設(shè)備事業(yè)為主,希望轉(zhuǎn)型重建企業(yè)經(jīng)營。 根據(jù)報導,日本半導體事業(yè)始于日本政府的產(chǎn)業(yè)計劃,1970年代由官方與民間合作的結(jié)果,建立了從半導體設(shè)備到半導體生產(chǎn)線的完整事業(yè)。當時名為日本光學工業(yè)的尼康,借其光學技術(shù)推出先進的曝光裝置,制造精密半導體的線路,是日本半導體產(chǎn)業(yè)在1980~1990年代與美國平起平坐的主因。 但是,1984年從荷蘭電機大廠飛利浦(Philips)獨立的ASML,由于積極與外界學校及廠商合作,
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ASML 10億歐元現(xiàn)金收購蔡司半導體24.9%股份
- 全球芯片光刻技術(shù)領(lǐng)導廠商阿斯麥(ASML) 和德國卡爾蔡司 (ZEISS) 旗下的蔡司半導體有限公 司 (Carl Zeiss SMT) 11月3日共同宣布,由 ASML以10億歐元現(xiàn)金收購 Carl Zeiss SMT的24.9%股權(quán),以強化雙方在半導體光刻技術(shù)方面的合作,發(fā)展下一代EUV光刻系統(tǒng),讓半導體行業(yè)得以用更低的成本制造更高效能的微芯片。目前雙方并沒有進一步股權(quán)交換的計劃。 Carl Zeiss SMT是ASML最重要的長期策略合作伙伴,30 多年來,為ASML的光刻設(shè)備提供最關(guān)火鍵
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ASML新技術(shù) 搶救摩爾定律
- 荷商艾司摩爾(ASML)可能有辦法解決全球半導體產(chǎn)業(yè)所面臨的問題:如何一面讓晶片保持現(xiàn)有尺寸,一面增加它們的性能。 半導體產(chǎn)業(yè)的過去發(fā)展均照著摩爾定律在走,這個由英特爾共同創(chuàng)辦人摩爾于1965年首度提出的定律指出,每隔兩年,晶片制造商就能使傳統(tǒng)微處理器的電晶體數(shù)目倍增,且性能也會隨之提升。 不過,英特爾執(zhí)行長科再奇去年警告,經(jīng)過幾十年的快速發(fā)展,未來半導體業(yè)每隔兩年半業(yè)才會出現(xiàn)過去那種進展。 ASML則相信自家突破性的技術(shù),能延后半導體產(chǎn)業(yè)步入衰敗期的時間。主導ASML相關(guān)業(yè)務(wù)的梅靈
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