法國研究機(jī)構(gòu)CEA-Leti提升三維芯片封裝能力
—— 面向研發(fā)型客戶項(xiàng)目
法國研究機(jī)構(gòu)CEA-Leti最近開始提升其三維芯片封裝的生產(chǎn)能力,CEA-Leti在Grenoble 有一條300 mm 的CMOS 研發(fā)型生產(chǎn)線,目前專門用于三維芯片封裝的試驗(yàn)。
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/116227.htmCEA-Leti 稱他們已經(jīng)可以向客戶提供 200 和 300 mm 晶圓的多種封裝技術(shù)和工具,其中包括三維定向光刻、深度刻蝕、介質(zhì)淀積、表面金屬化等。
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