新聞中心

EEPW首頁(yè) > EDA/PCB > 市場(chǎng)分析 > 2011年晶圓廠資本支出創(chuàng)歷史新高

2011年晶圓廠資本支出創(chuàng)歷史新高

—— 實(shí)現(xiàn)同比增長(zhǎng)22%
作者: 時(shí)間:2011-03-04 來(lái)源:SEMI 收藏

  根據(jù)SEMI World Fab Forecast的報(bào)告,2011年全球廠項(xiàng)目支出,包括建設(shè)、設(shè)施、設(shè)備,將較2010年增長(zhǎng)22%,其中設(shè)備支出(包括新設(shè)備和二手設(shè)備)將增長(zhǎng)28%。該分析報(bào)告基于近期所宣布的資本支出計(jì)劃,主要來(lái)自代工廠商和廠商。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/117447.htm

  “廠項(xiàng)目總支出今年將接近472億美元,較2010年的386億美元大幅增漲。”SEMI Industry Research and Statistics高級(jí)分析師Christian Gregor Dieseldorff說(shuō)道,“2011的支出將最終超過(guò)2007年464億美元的峰值水平。”



關(guān)鍵詞: 晶圓 存儲(chǔ)芯片

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉