3nm 文章 進(jìn)入3nm技術(shù)社區(qū)
三星已成全球芯片霸主,規(guī)劃芯片制程路線:2022年要上3nm
- 5月28日,三星電子在位于美國的 2018 年三星半導(dǎo)體代工論壇上,公布其全面的芯片制程技術(shù)路線圖,目前已經(jīng)更新至 3nm 工藝?! ?jù)介紹,三星的 7nm LPP 將成為該公司首款使用EUV(極紫外光刻)方案的半導(dǎo)體工藝技術(shù)。以往三星的制程工藝都會分為 LPE 和 LPP 兩代,不過 7nm 算是個例外,沒有 LPE。之前已公布,三星 7nm LPP 將于 2018 年下半年量產(chǎn),2019 年的高通和三星芯片有望采用該制造工藝。 三星表示,在 7nm LPP 之后推出的 5nm LPE 將為 So
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臺積電計劃2022年量產(chǎn)3nm芯片
- 臺積電在8月14日宣布,公司董事會已批準(zhǔn)了一項約45億美元的資本預(yù)算。未來將會使用該預(yù)算來修建新的晶圓廠,而現(xiàn)在中國臺灣媒體報道稱,臺積電計劃2020年開始建造3nm制程的晶圓廠,希望能夠在2022年實現(xiàn)3nm制程芯片的量產(chǎn)?! 「鶕?jù)臺灣《經(jīng)濟(jì)日報》的報道,臺灣相關(guān)部門通過了「臺南科學(xué)園區(qū)二期基地開發(fā)暨原一期基地變更計劃環(huán)差案」,這項議案主要是為了臺積電全新的晶圓制造廠而打造?! ?jù)悉,臺積電計劃2020年開始建造最新的3nm制程的晶圓廠,同時最快可以在2022年實現(xiàn)對于3nm制程芯片的量產(chǎn)。目前臺積
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aveni S.A. 運用創(chuàng)新電鍍化學(xué),將銅互連擴(kuò)展至5nm及以下節(jié)點以實現(xiàn)BEOL集成
- 為2D互連和3D硅穿孔封裝提供顛覆性濕沉積技術(shù)與化學(xué)材料的開發(fā)商與生產(chǎn)商aveni S.A.今日宣布,其已獲得成果可有力支持在先進(jìn)互連的后段制程中,在5nm及以下技術(shù)節(jié)點可繼續(xù)使用銅?! 钢荡算~集成20周年之際,我們的研究結(jié)果證實了IBM研究員Dan Edelstein在近期IEEE Nanotechnology Symposium上的主題演講中所表達(dá)的意見:『銅集成可持續(xù)使用』?!筧veni執(zhí)行長Bruno Morel指出。 由于器件要滿足(和創(chuàng)
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張忠謀:3nm晶圓廠2020年開建 未來3年收入增幅都達(dá)5-10%
- 臺積電創(chuàng)始人兼董事長張忠謀在近日的一次公司會議上披露,臺積電將在2020年開工建設(shè)3nm工藝晶圓廠,但不會去美國設(shè)廠,而是堅持留在中國臺灣本土,確切地說是在南部科技園區(qū)。 張忠謀提出,臺積電相信當(dāng)?shù)卣畷鉀Q好3nm工廠建設(shè)所需的水電土地問題,并提供全力協(xié)助。 按照張忠謀此前的說法,3nm工廠建設(shè)預(yù)計會花費超過200億美元,同時有望帶動相關(guān)供應(yīng)商跟進(jìn)建廠,拉動臺南地區(qū)經(jīng)濟(jì)發(fā)展。 他沒有透露3nm工廠何時完工、新工藝何時量產(chǎn),但即便不考慮額外困難和挑戰(zhàn),最快也得是2023年的事兒了。
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張忠謀:3nm制程會出來 2nm后很難
- 臺積電董事長張忠謀表示,摩爾定律可能還可再延續(xù)10年,3nm制程應(yīng)該會出來,2nm則有不確定性,2nm之后就很難了。 張忠謀表示,1998年英特爾總裁貝瑞特來臺時,兩人曾針對摩爾定律還可延續(xù)多久進(jìn)行討論,他當(dāng)時回答還有15年,貝瑞特較謹(jǐn)慎回答,大概還有10年。 現(xiàn)在已經(jīng)2017年,張忠謀表示,兩人當(dāng)時的答案都錯了;他指出,目前大膽預(yù)測摩爾定律可能再有10年。 張忠謀表示,臺積電明年將生產(chǎn)7nm制程,5nm已研發(fā)差不多,一定會出來,3nm也已經(jīng)做2至3年,看來也是會出來。 張忠謀
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臺積備戰(zhàn)3nm全靠極紫外光(EUV)微影設(shè)備
- 極紫外光(EUV)微影設(shè)備無疑是半導(dǎo)體制程推向3nm的重大利器。這項每臺要價高達(dá)逾近億美元的尖端設(shè)備,由荷商ASML獨家生產(chǎn)供應(yīng),目前主要買家全球僅臺積電、三星、英特爾及格羅方德等大廠為主。 EUV設(shè)備賣價極高,原因是開發(fā)成本高,因此早期ASML為了分?jǐn)傞_發(fā)風(fēng)險,還特別邀請臺積電、三星和英特爾三大廠入股,但隨著開發(fā)完成,臺積電后來全數(shù)出脫艾司摩爾股票,也獲利豐碩。 有別于過去半導(dǎo)體采用浸潤式曝光機(jī),是在光源與晶圓中間加入水的原理,使波長縮短到193/132nm的微影技術(shù),EUV微影設(shè)備是利
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臺灣:AI終端芯片需要3nm制程生產(chǎn)
- 人工智能(AI)成為下世代科技發(fā)展重點,工研院 IEK 計劃副組長楊瑞臨表示,AI 終端載具數(shù)量將遠(yuǎn)小于手機(jī),半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)挑戰(zhàn)恐將增大,芯片業(yè)者應(yīng)朝系統(tǒng)與服務(wù)領(lǐng)域發(fā)展。 工研院產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)與趨勢研究中心(IEK)計劃副組長楊瑞臨指出,人工智能大致可分為數(shù)據(jù)收集與決策兩部分;其中,數(shù)據(jù)收集方面,因需要大量運算,應(yīng)在云端進(jìn)行。 決策方面,目前各國仍以云端發(fā)展為主,楊瑞臨表示,未來決策能否改由終端執(zhí)行,是各界視為臺灣發(fā)展 AI 的一大機(jī)會。 只是無人機(jī)、自駕車、機(jī)器人與虛擬現(xiàn)實(VR)/擴(kuò)增實境
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3nm介紹
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