首頁　 資訊　 商機(jī) 　 下載　 拆解 　 高校　 招聘 　 雜志　 會展　 EETV　 百科 　 問答　 電路圖　 工程師手冊 　 Datasheet　 100例 　 活動中心　 E周刊閱讀 　 樣片申請
EEPW首頁 >> 主題列表 >> nxe:3800e euv

臺積電：5nm EUV工藝已在量產(chǎn)、明年推出增強(qiáng)版

  • 24日，臺積電舉辦了第26屆技術(shù)研討會，并披露了旗下最新工藝制程情況。按照臺積電的說法，5nm工藝規(guī)劃了兩代，分別是N5和N5P。其中N5確定引入EUV（極紫外光刻）技術(shù)，并且已經(jīng)在大規(guī)模量產(chǎn)之中。相較于N7，N5的功耗降低了30%、性能提升了15%，邏輯器件密度是之前的1.8倍。N5P作為改良版，仍在開發(fā)中，規(guī)劃2021年量產(chǎn)，相較于第一代5nm，功耗進(jìn)一步降低10%、性能提升5%，據(jù)稱面向高性能計(jì)算平臺做了優(yōu)化。據(jù)手頭資料，臺積電的5nm有望應(yīng)用在蘋果A14芯片（包括Apple Silicon PC處
  • 關(guān)鍵字： 臺積電  5nm  EUV  

臺積電采購30臺EUV光刻機(jī)沖刺7/5nm，ASML就近設(shè)立培訓(xùn)中心

  • 臺積電在高端制程技術(shù)上沖鋒陷陣，已經(jīng)成為光刻機(jī)龍頭 ASML 在 EUV 機(jī)臺上的最大采購客戶，累計(jì)已經(jīng)購買了 30 臺 EUV 設(shè)備。日前，ASML 繼在韓國成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心后，也在臺積電先進(jìn)制程的重鎮(zhèn)臺灣臺南，成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心。一臺EUV系統(tǒng)需要50個工程師操作一臺造價逾一億歐元的精密 EUV 系統(tǒng)，重量高達(dá) 180&nbs
  • 關(guān)鍵字： EUV  臺積電  ASML  

Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻：捍衛(wèi)摩爾定律

  • 日前，中國國際半導(dǎo)體技術(shù)大會（CSTIC）在上海開幕，為期19天，本次會議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。其中，光刻機(jī)一哥ASML（阿斯麥）的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進(jìn)工藝的設(shè)備，EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認(rèn)為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，截至2019年第四季度，ASML當(dāng)年共售出53臺EUV NXE：3400系列EUV光刻機(jī)，使用EUV機(jī)器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達(dá)到1000萬片。他說，EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
  • 關(guān)鍵字： Intel  臺積電  ASML  EUV  光刻  摩爾定律  

華為、蘋果7/5nm需求大 臺積電狂加EUV訂單

  • 2020年因?yàn)槿蚪?jīng)濟(jì)的問題，本來電子行業(yè)會下滑，但是晶圓代工場合不降反升，臺積電Q1季度營收大漲了30%，牢牢坐穩(wěn)了全球晶圓代工一哥的位置。由于華為、蘋果等公司的7nm及5nm工藝需求大，臺積電目前正在瘋狂增加EUV產(chǎn)能。臺積電2018年量產(chǎn)了7nm工藝，不過第一代7nm沒有EUV工藝加持，2019年的7nm EUV工藝才由華為的麒麟990 5G處理器首發(fā)，而今年的5nm工藝則會全面上馬EUV工藝。根據(jù)臺積電之前公布的數(shù)據(jù)，7nm及7nm EUV工藝目前每月的產(chǎn)能達(dá)到了11萬片晶圓/月，而5nm工藝的月
  • 關(guān)鍵字： 華為  蘋果  5nm  臺積電  EUV  

三星新建5nm晶圓廠：先進(jìn)EUV技術(shù) 2021年投產(chǎn)

  • 隨著時間邁入2020年中，以臺積電和三星為代表的芯片半導(dǎo)體也從7nm逐步向5nm進(jìn)發(fā)，實(shí)際上麒麟1020和蘋果A14芯片就是基于臺積電5nm工藝，表現(xiàn)相較7nm將會更上一層樓。很明顯在7nm時代，三星是落后于臺積電的，不過這家巨頭似乎想在5nm時代彎道超車，近日據(jù)媒體報(bào)道，三星宣布將于漢城南部的平澤市建造全新的5nm晶圓廠。該工廠是三星在韓國國內(nèi)的第六條晶圓代工產(chǎn)線，將應(yīng)用先進(jìn)的極紫外光微影（ExtremeUltravioletlithography，EUV）制程技術(shù)，拿7nmEUV工藝對比，三星5nmE
  • 關(guān)鍵字： 三星  5nm  EUV  

EUV光刻機(jī)斷貨 臺積電5nm工藝搶三星頭彩：A14/麒麟1020首發(fā)

  • 臺積電上周發(fā)布了3月及Q1季度財(cái)報(bào),營收同比大漲了42%,淡季不淡。不過接下來的日子半導(dǎo)體行業(yè)可能不太好過了,ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)斷貨,要延期交付,好在臺積電今年已經(jīng)在5nm工藝上搶先三星了。根據(jù)ASML之前的報(bào)告,3月底他們下調(diào)了1季度營收預(yù)期到24-25億美元,差不多減少了1/4左右的營收,毛利率也下滑到了45-46%之間。此外,ASML的EUV光刻機(jī)也因?yàn)榉N種原因斷貨了,雖然訂單沒有取消,但是交付要延期了,三星、臺積電今年都不太容易快速擴(kuò)張EUV產(chǎn)能。不過臺積電在這次危機(jī)中更有優(yōu)勢地位,他們包
  • 關(guān)鍵字： EUV  臺積電5nm  

三星首次將EUV技術(shù)應(yīng)用于DRAM生產(chǎn)

  • 據(jù)ZDnet報(bào)道，三星宣布，已成功將EUV技術(shù)應(yīng)用于DRAM的生產(chǎn)中。
  • 關(guān)鍵字： 三星  EUV  DRAM  

三星率先為DRAM芯片導(dǎo)入EUV：明年將用于DDR5/LPDDR5大規(guī)模量產(chǎn)

  • 當(dāng)前在芯片制造中最先進(jìn)的EUV（極紫外光刻）工藝被三星率先用到了DRAM內(nèi)存顆粒的生產(chǎn)中。這家韓國巨頭今日宣布，已經(jīng)出貨100萬第一代10nm EUV級（D1x）DDR4 DRAM模組，并完成全球客戶評估，這為今后高端PC、手機(jī)、企業(yè)級服務(wù)器等應(yīng)用領(lǐng)域開啟新大門。得益于EUV技術(shù)，可以在精度更高的光刻中減少多次圖案化的重復(fù)步驟，并進(jìn)一步提升產(chǎn)能。三星表示，將從第四代10nm級（D1a）DRAM或高端級14nm級DRAM開始全面導(dǎo)入EUV，明年基于D1a大規(guī)模量產(chǎn)DDR5和LPDDR5內(nèi)存芯片，預(yù)計(jì)會使12
  • 關(guān)鍵字： 三星  DRAM  EUV  

引入EUV技術(shù)的6nm，才是真正的6nm

  • 只有引入EUV技術(shù)的6nm才是真正的6nm，而這項(xiàng)技術(shù)也將伴隨未來可能的5nm、4nm、3nm、2nm、1nm一路
  • 關(guān)鍵字： EUV  6nm  光刻機(jī)  

泛林集團(tuán)發(fā)布應(yīng)用于EUV光刻的技術(shù)突破

  • 近日，泛林集團(tuán)發(fā)布了一項(xiàng)用于EUV光刻圖形化的干膜光刻膠技術(shù)。泛林集團(tuán)研發(fā)的這項(xiàng)全新的干膜光刻膠技術(shù)，結(jié)合了泛林集團(tuán)在沉積、刻蝕工藝上的領(lǐng)導(dǎo)地位及其與阿斯麥?(ASML) 和比利時微電子研究中心?(imec)?戰(zhàn)略合作的成果，它將有助于提高EUV光刻的分辨率、生產(chǎn)率和良率。泛林集團(tuán)的干膜光刻膠解決方案提供了顯著的EUV光敏性和分辨率優(yōu)勢，從而優(yōu)化了單次EUV光刻晶圓的總成本。由于領(lǐng)先的芯片制造商已開始將EUV光刻系統(tǒng)應(yīng)用于大規(guī)模量產(chǎn)，進(jìn)一步提升生產(chǎn)率和分辨率將幫助他們以更合理
  • 關(guān)鍵字： EUV  光刻  

泛林集團(tuán)在提高EUV光刻分辨率、生產(chǎn)率和良率取得技術(shù)突破

  • 泛林集團(tuán)與阿斯麥 (ASML) 和比利時微電子研究中心 (imec) 共同研發(fā)的全新干膜光刻膠技術(shù)將有助于提高EUV光刻的分辨率、生產(chǎn)率和良率。
  • 關(guān)鍵字： 泛林  EUV  干膜光刻膠技術(shù)  

2021年ASML將推下一代EUV光刻機(jī) 面向2nm、1nm工藝

  • 作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機(jī),主要用于臺積電、三星的7nm及今年開始量產(chǎn)的5nm工藝,預(yù)計(jì)今年出貨35臺EUV光刻機(jī)。目前ASML出貨的光刻機(jī)主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C,兩者基本結(jié)構(gòu)相同,但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計(jì),維護(hù)更加便捷,平均維修時間將從48小時縮短到8-10小時,支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的產(chǎn)能也從之前的125WPH(每小時處理晶圓數(shù))提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:
  • 關(guān)鍵字： ASML  EUV  

麒麟820處理器要來,6納米+EUV工藝,手有技術(shù)氣自華!

  • hello,大家好,歡迎來到阿洛伊科技華為將于2月24日21:00舉行在線新品發(fā)布會。在疫情爆發(fā)期間,手機(jī)制造商選擇在網(wǎng)上舉行發(fā)布會。據(jù)悉,此次發(fā)布會的主題是“共同未來”。從海報(bào)上看,本次大會將涵蓋多個類別,包括折疊手機(jī)、筆記本電腦、平板電腦、智能手表、智能家居等,不過,據(jù)媒體透露,本次大會將會有一個驚喜,即將發(fā)布最新的旗艦SOC麒麟820處理器。與上一代麒麟810相比,該處理器有哪些升級?讓我們看看。麒麟820處理器將采用cortex A76架構(gòu)。不采用最新的cortex a77架構(gòu)的主要原因是,ARM
  • 關(guān)鍵字： 麒麟820  6納米  EUV  

臺積電遇強(qiáng)大對手!6nm、7nm EUV開啟全面量產(chǎn),中國仍需努力!

  • 告別了諾基亞、HTC、黑莓等手機(jī),目前的智能手機(jī)陣營也就是安卓和蘋果,而智能手機(jī)儼然就是人們的第二個精神生命,手機(jī)不離手已經(jīng)成為了一種現(xiàn)象,但是對于智能手機(jī)來說,除了軟件以外,最重要最核心的就是手機(jī)芯片了!但是在全世界來說,能夠生產(chǎn)高端芯片的廠商少之又少,主要還是因?yàn)榧{米級制程工藝的技術(shù)壁壘,誰能夠率先突破制程工藝,誰都將會在半導(dǎo)體芯片上拔得頭籌,對于中國來說,這一塊仍然非常的滯后,當(dāng)然了如果說臺積電也是中國的話,那么中國其實(shí)還是領(lǐng)先的!但是畢竟臺積電一直以來是中國臺灣企業(yè),但其實(shí)其也一直受限于美國的政策
  • 關(guān)鍵字： 臺積電  EUV  

面向3nm及以下工藝，ASML新一代EUV光刻機(jī)曝光

  • 很快,臺積電和三星的5nm工藝即將量產(chǎn),與此同時,臺積電和三星的3nm工藝也在持續(xù)的研發(fā)當(dāng)中。而對于5nm及以下工藝來說,都必須依靠EUV(極紫外)光刻機(jī)才能實(shí)現(xiàn)。而目前全球只有一家廠商能夠供應(yīng)EUV光刻機(jī),那就是荷蘭的ASML。很快,臺積電和三星的5nm工藝即將量產(chǎn),與此同時,臺積電和三星的3nm工藝也在持續(xù)的研發(fā)當(dāng)中。而對于5nm及以下工藝來說,都必須依靠EUV(極紫外)光刻機(jī)才能實(shí)現(xiàn)。而目前全球只有一家廠商能夠供應(yīng)EUV光刻機(jī),那就是荷蘭的ASML。目前ASML出貨的EUV光刻機(jī)主要是NXE:340
  • 關(guān)鍵字： 3nm  EUV  
共201條 8/14 |‹ « 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 »

nxe:3800e euv介紹

您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條nxe:3800e euv!
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對nxe:3800e euv的理解，并與今后在此搜索nxe:3800e euv的朋友們分享。    創(chuàng)建詞條

熱門主題

樹莓派    linux   
關(guān)于我們 - 廣告服務(wù) - 企業(yè)會員服務(wù) - 網(wǎng)站地圖 - 聯(lián)系我們 - 征稿 - 友情鏈接 - 手機(jī)EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473